Microwave annealing effects on ZnO films deposited by atomic layer deposition

Zinc oxide thin films deposited on glass substrate at 150°C by atomic layer deposition were annealed by the microwave method at temperatures below 500 °C.The microwave annealing effects on the structural and luminescent properties of Zn O films have been investigated by X-ray diffraction and photoluminescence.The results show that the MWA process can increase the crystal quality of Zn O thin films with a lower annealing temperature than RTA and relatively decrease the green luminescence of Zn O films.The observed changes have demonstrated that MWA is a viable technique for improving the crystalline quality of Zn O thin film on glass.     

强化麻醉在局麻下鼻内镜术中应用

目的 观察强化麻醉联合局部麻醉行功能性鼻内镜手术的安全性与有效性。方法 2008年1月至2010年6月在该院行功能性鼻内镜手术的患者128例,随机分成2组,即观察组:静脉强化麻醉联合局部麻醉组;对照组:全身麻醉组,观察术中出血量、治愈率、费用、患者自我评价等。结果 观察组术中出血量、手术费用明显低于对照组(P<0.05)。观察组的患者自我评价显著高于对照组(P<0.05)。治愈率2组差异无统计学意义。结论 静脉麻醉联合局部麻醉行鼻内镜手术安全有效。     

原子层沉积生长速率的控制研究进展

原子层沉积生长技术(ALD)是以表面自限制化学反应为机制的薄膜沉积技术, 可以一层一层地生长薄膜。该技术具有生长温度低、沉积厚度精确可控、保形性好和均匀性高等优点, 逐渐成为制备薄膜材料最具发展潜力的薄膜生长技术。作为ALD技术中一个关键的指标--生长速率, 不仅对沉积所得薄膜的晶体质量、致密度起重要作用, 更重要的是影响集成电路的生产效率。本文综述了近年来ALD生长机制和生长速率方面的研究结果, 以及ALD技术生长速率的影响因素, 并分析探讨了提高和改善ALD生长速率的方法以及研究趋势。