在圆光栅和度盘刻划中应用光刻胶的工艺装置

为了得到高精度、高质量的光栅盘、度盘、光栅尺等,目前国内外已有一些部门开始把集成电路工艺中使用的光刻胶应用到光学刻划方面来。光刻胶具有很高的分辨率和很强的抗蚀能力,因此用它能刻出很细的线条并能得到很好的边缘。     

用双刀架光刻方法提高圆分划的刻划精度

分析了圆刻度机进行圆分划的误差来源,提出了用对径布置双刀架光刻方法来消除圆刻度机主轴晃动及刀架切向位移所引起的刻划误差。在同一圆刻度机上多次试验表明,直径为100毫米、刻线为10800条的圆光栅,用单刀架光刻,最大直径误差为1.0角秒左右;用对径双刀架光刻,最大直径误差为0.2～0.4角秒。实践证明,对径布置双刀架光刻法是提高圆刻度机刻划精度的有力手段。     

光刻胶用于高精度光栅盘、度盘的制备工艺

本文比较详细地介绍了光刻胶用于高精度光栅盘、度盘的制备工艺,並就其中的一些关键问题和试验结果作了说明。     

正型光刻胶刻制铬质度盘、光栅盘

一、引言光栅盘、度盘为数控、数显的关键元件之一。目前制造光栅有刻划法,投影曝光法和接触复制法等。投影光刻法优点较多,如效率高、精度高。其弱点是采用火棉胶作感光乳剂膜层,强度差,怕摩擦。且由于是有底层的胶膜,故光栅对比度及均匀性较差,分