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1.
等离子体源离子渗氮合成硼碳氮薄膜的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用等离子体源离子渗氮,即低能,超大剂量氮离子注入-同步热扩散技术,在300-500℃处理碳化硼薄膜,合成了硼碳酸三元薄膜。俄歇电子能谱和漫反射富氏变换红外光谱分析表明,合成的硼碳氮薄膜是碳硼比固定,氮含量可控的非晶态薄膜。  相似文献   
2.
采用金相组织分析、X射线衍射、电子探针显微分析等方法,研究了18Mn-4Cr-0.4C-0.1N无磁钢在800~950 ℃区间等温时效过程中氮碳化物的析出行为,并建立了氮碳化物的等温析出-溶解动力学曲线.结果表明,氮碳化物析出相M23(C,N)6和M7(C,N)3在奥氏体晶界析出,随着等温时间增加,析出数量增多,由粒状向链状聚集;进一步延长等温时间,两种析出相均发生分解,回溶到奥氏体中.M23(C,N)6和M7(C,N)3等温析出和分解的临界温度均为900 ℃,控制析出的临界冷却速度为25 ℃/min.  相似文献   
3.
本文研究了电炉、VHD炉外精炼、电渣重熔和真空自耗重熔冶炼的GCr15钢的断裂韧性(K_(IC))。结果表明;如果显微组织和硬度都相同,则不同方法冶炼的GCr15钢的K_(IC)相差不明显,以电渣钢的K_(IC)值稍高。切口试样的K_A也有相同的趋势。K_(IC)和K_A都主要决定于硬度和钢内碳化物颗粒的尺寸分布。用Weibull统计模型可以满意地解释K_(IC),用切口顶端区域的断裂应变和抗张强度可以计算K_A,与实验符合。  相似文献   
4.
钢渗硼表面残余应力的数值分析   总被引:3,自引:0,他引:3  
采用有限元法的平面轴对称分析模型,依据渗硼表面和界面特征,计算45钢在840-1050℃渗硼表面的热应力,45钢渗硼试样在外表面区边缘,FeB/Fe2B界面和Fe2B/钢基体界面呈张应力状态,且界面区存在着急剧的张应力和压应力的交替变化,计算与文献报道的实测应力分布规律一致,钢的渗硼表面搞张应力造成渗硼试样的表面开裂,硼化物的钢基体界面产生的微区塑性变形导致硼化物层剥落。  相似文献   
5.
铸态Ti-Zr-Ni准晶基合金的室温力学性能   总被引:1,自引:0,他引:1  
用吸铸法制备出含Ti(Zr)固溶体韧性相的Ti-Zr-Ni准晶合金棒,通过维氏显微硬度测定和单向压缩实验等方法研究了该新型合金的室温力学性能和断裂行为。结果表明:Ti-zr-Ni准晶基复相(α-Ti(Zr) I)合金力学性能良好,维氏显微硬度值接近5.5GPa,断裂强度达到1000MPa,Young’s模量值23-36GPa。其中,Ti60Zr25Ni15合金的室温弹性应变可达4.2%,是Al基准晶合金的4倍。但其室温单向压缩时的断裂方式仍为准解理断裂,属脆性断裂。  相似文献   
6.
采用X射线光电子谱(XPS)分析300~500℃等离子体源离子渗氮硼和碳化硼薄膜合成的氮化硼和硼碳氮薄膜。利用合成薄膜成分可控的特点,研究B、C、N对薄膜的XPS影响。结果表明,XPS分析合成氮化硼薄膜能够确定其化学组成,但不能确定sp^2和sp^3型键合结构特性;XPS分析硼碳氮薄膜能够确定其成分和结构特性。在较高的工艺温度下,等离子体源离子渗氮合成的硼硕氮薄膜具有sp^2和sp^3型复合的键合  相似文献   
7.
采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜。X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600℃沉积温度下,Si(100)基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al2O3薄膜。薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al2O3体材料相当。  相似文献   
8.
等离子体源增强磁控溅射沉积Al2O3薄膜研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜.X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600℃沉积温度下,Si(100)基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al2O3薄膜.薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al2O3体材料相当.  相似文献   
9.
核主泵齿形联轴器内外齿渗氮表面出现尺寸3~10 mm、颜色比正常区域略深且金属光泽暗淡的表面斑点缺陷,利用扫描电镜、电子探针、X射线衍射仪,以及维氏硬度计分别对斑点缺陷与正常区域进行了观察和检测,缺陷区域的化合物层厚度和氮浓度均显著降低,显微硬度由HV_(0.25N)6.15 GPa降低至HV_(0.25N)5.10 GPa,解释了渗氮表面斑点缺陷成因并提出了消除措施。  相似文献   
10.
等离子体改性1Cr18Ni9Ti不锈钢钝化膜的耐蚀性   总被引:2,自引:0,他引:2  
等离子体改性1Cr18Ni9Ti不锈钢钝化膜的耐蚀性雷明凯,袁力江,孔常静,张仲麟(大连理工大学大连116024)电子回族共振(ECR)微波等离子体具有高电子密度和离化率,低放电粒子溅射率及无极放电设计等优点[1-2],为金属钝化膜的改性提供了有效和...  相似文献   
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