柱形靶电弧离子镀系统的研究

柱形靶电弧离子镀系统是在吸收了平面靶电弧离子镀系统高电离率、高沉积速率等优点的基础上,又综合了柱型磁控溅射系统装炉量大、设备结构简单等优点而研制出的一种新型镀膜技术。柱形阴极靶置于真空室的中央,弧斑在绕柱靶表面高速旋转的同时,可人为地控制弧斑沿柱靶表面往复运动。因而靶面刻蚀均匀,镀膜均匀区宽。通过控制弧斑的移动速率,可细化膜层组织,减少熔滴。被镀工件置于阴阳极之间,只作自转,无需公转。不仅简化了工件架的结构,而且对不同尺寸的工件可以混装。在制备氮化钛超硬薄膜时,沉积速率可达4～8μm/h。     

C60二茂铁亚胺电荷转移复合物光限制效应的研究

我们用调Ｑ－ＹＡＧ激光器的５３２ｎｍ，１５ｎｓ激光，研究了Ｃ６０及三种Ｃ６０／二茂铁亚胺，电荷转移复合物的光限制作用，还对它们的光限制效应进行了解释和讨论。