Study on an Atmospheric Pressure Plasma Jet and its Application in Etching Photo-Resistant Materials

An atmospheric pressure radio-frequency plasma jet that can eject cold plasma has been developed. In this paper, the configuration of this type of plasma jet is illustrated and its discharge characteristics curves are studied with a current and a voltage probe. A thermal couple is used to measure the temperature distribution along the axis of the jet stream. The temperature distribution curve is generated for the He/O2 jet stream at the discharge power of 150 W. This jet can etch the photo-resistant material at an average rate of 100 nm/min on the surface of silicon wafers at a right angle.     

常压等离子体处理对羊毛结构性能的影响

常压低温等离子体设备是一种在纺织行业中具有较大推广价值的设备,低温等离子体技术是一种改善天然纤维表面性能的有效方法.运用中科院光电研究院自行研制的准辉光介质阻挡放电常压低温等离子体设备对羊毛纤维进行了处理.文章对等离子体放电过程中,不同反应气氛、处理时间等条件进行了较为系统的实验,通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪、XPS光电子能谱仪等设备对等离子体处理后羊毛纤维的结构与性能进行了细致的研究.实验结果表明:经不同气氛条件的等离子体处理后,羊毛纤维表面发生了不同程度的物理与化学刻蚀作用.     

常压射频激励低温冷等离子体刻蚀光刻胶

介绍了一种新型的常压射频激励低温冷等离子体喷射装置,利用电流和电压探针研究了该等离子体的放电特性,利用热电偶研究了喷射出的等离子体束流温度,得到其放电与传统的真空室中电容耦合放电具有一致的特性.利用该等离子体装置在大气压下对AZ9918光刻胶进行了干法刻蚀实验,用电镜观察了刻蚀留胶前后硅表面的效果,研究了放电等离子体功率以及衬底温度对刻蚀速率的影响,在放电功率为300W时,得到刻蚀速率接近500nm/min.     

常压冷等离子体清洗技术在微电子工业中的应用

介绍常压射频冷等离子体清洗设备工作原理以及在微电子工业中的应用,给出用常压冷等离子体清洗设备去除光刻胶的实验结果,简单阐述该技术将对微电子工业工艺过程带来的影响。     

常压射频激励低温冷等离子体刻蚀光刻胶

介绍了一种新型的常压射频激励低温冷等离子体喷射装置,利用电流和电压探针研究了该等离子体的放电特性,利用热电偶研究了喷射出的等离子体束流温度,得到其放电与传统的真空室中电容耦合放电具有一致的特性．利用该等离子体装置在大气压下对AZ9918光刻胶进行了干法刻蚀实验,用电镜观察了刻蚀留胶前后硅表面的效果,研究了放电等离子体功率以及衬底温度对刻蚀速率的影响,在放电功率为300W时,得到刻蚀速率接近500nm/min．     

Ar／O2等离子体处理烟草中主要化学成分的初步研究

为了优化调制烟叶中的化学成分,采用了低温常压Ar／O2等离子体处理方法结合近红外光谱分析,对烟草考察了不同放电时间的处理效果。结果显示：等离子体处理后,烟碱等主要的五种化学成分的含量随处理时间的增加均有改变。因此,需要对输入气体、放电电压、放电距离等更多的影响因素进行深入研究,达到提高烟叶品质的目的。     

聚四氟乙烯低温等离子体表面改性与粘接性能

利用自行研制的真空低温等离子体设备对聚四氟乙烯(Teflon)薄膜材料进行表面处理,并对等离子体处理后Teflon之间粘接性能作了研究,找到了一些实用的工艺;采用静态接触角、SEM和XPS对等离子体处理前后Teflon的表面接触角、时效性、微观结构及表面成分的改变进行了分析。实验结果显示,其表面接触角随处理时间的变化存在一个最佳值,随着处理时间的进一步增加,其亲水性又开始变差。     

常压宽间距辉光等离子体改性醋酸纤维

利用宽间距常压空气辉光等离子体对香烟滤嘴用的醋酸纤维束进行了表面处理研究。通过对醋酸纤维毛细效应的测试以及电子扫描显微镜的观察和分析,发现醋酸纤维经等离子体处理后,其毛细效应(简称毛效)有显著的提高,表面经等离子体刻蚀后出现明显的褶皱痕迹,该实验结果表明:醋酸纤维经等离子体处理后,其表面积增大,吸附性能增强。     

超低k介质材料低损伤等离子体去胶工艺进展

介绍了三类常见的低k介质材料,并对空气隙(k=1)的发展进行了探讨;讨论了引起等离子体损伤的机理和传统的O2等离子体去胶工艺面临的困难;最后综述了近年来国际上提出的低损伤等离子体去胶工艺的研究进展。人们已经开发出一些对低k材料进行硅化处理的工艺,可以部分修复在刻蚀和去胶处理过程中被消耗掉的有机官能团。基于金属硬掩膜层和新型等离子体化学的集成方案将会展示出颇具前景的结果。     

常压射频低温冷等离子体清洗光刻胶研究

介绍了一种新型的常压射频低温冷等离子体放电设备,用该设备进行了清洗光刻胶的工艺实验研究.实验结果表明:在100mm硅片表面涂上9912光刻胶,用等离子体进行清洗的速率可达500nm/min,测量了清洗速率与放电功率、氧气流量和衬底温度之间的变化关系;并对离子注入(B ,5×1015cm-2)后的光刻胶进行了清洗实验,得到清洗速率为300nm/min.清洗后的电镜分析证明,经等离子体清洗后,硅片表面无损伤、无残胶.