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针对相机和电子显微镜等成像设备在自动对焦过程中聚焦测度易受噪声干扰的问题,将图像处理中的斜变换与统计学中的方差相结合,提出一种具有噪声鲁棒性的聚焦测度.将图像进行分块处理,便于后续获取每个局部子图像的清晰度指标.计算每一个子图像的斜变换来得到频域系数.在变换域中,计算中频系数的绝对值并对它进行累加求和作为各子图像的清晰... 相似文献
3.
综述了聚乙烯醇缩丁烯醛胶的制备原理和制备方法,并讨论了聚乙烯醇缩丁烯醛胶在国内外的应用进展情况. 相似文献
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早在读书的时候,我便对日本建筑和建筑师有浓厚的兴趣,日本建筑所营造的素雅纯净的空间及诸多日本明星建筑师像丹下健三、黑川纪章、矶崎新、安藤忠雄等都深深吸引了我。但工作后的繁忙紧张令我无暇对日本城市建筑进行系统分析研究。借着此次参加亚洲建筑师大会之机,我先后考察了北九州、大阪、京都、横滨、东京的几处著名的建筑,亲身感受了高度工业化的建筑技术支撑的高完成度项目,而日本建筑中流露出的简约纯净以及耐人品味的意境也深深感染了我。1日本现代建筑的传统精神 相似文献
7.
研究了泛线性广义函数的傅里叶变换,从而把傅里叶变换的应用范围从线性空间推广到一类非线性空间--E(φ,U). 相似文献
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不同晶态比条件下氢化纳米硅薄膜光学性质的研究 总被引:1,自引:1,他引:0
利用等离子体化学气相沉积系统,在射频源和直流负偏压源的双重激励下,保持射频功率、反应室气压、衬底温度、硅烷与氢气混合比以及总流量不变,改变直流负偏压从50~250V,在康宁7059玻璃衬底上制备了本征氢化纳米硅薄膜。利用拉曼散射仪表征了不同直流负偏压条件下薄膜微结构特征;利用Shmadzu UV-2450型光谱仪测试了薄膜样品透射图谱。研究发现提高直流负偏压将导致晶态比、沉积速率发生变化。薄膜的光吸收系数和消光系数随波长增加呈下降趋势;不同晶态比薄膜的悬挂键和有效载流子浓度、致密程度、键畸变程度和悬挂键数目的差异,致使晶态比增加,薄膜的吸收系数、消光系数在波长为400nm附近依次增加,光学带隙值从1.96eV减小到1.66eV。 相似文献
9.
采用直流磁控溅射法,以高纯铝(99.99%)为靶材,高纯氩气(99.999%)为起辉气体,在经机械抛光的单晶Si衬底上制备铝纳米颗粒薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、光学薄膜测厚仪、扫描电子显微镜(SEM)和四探针测试仪分别测试了铝纳米颗粒薄膜的晶相结构、薄膜厚度、表面形貌及电阻率。XRD衍射图谱表明此薄膜为面心立方的多晶结构,择优取向为Al(111)晶面。随溅射功率由30 W增至300 W,铝纳米颗粒薄膜的沉积速率由3.03 nm/min增加至20.03 nm/min;而随溅射压强由1 Pa增加至3 Pa,沉积速率由2.95 nm/min降低到1.66 nm/min。在溅射功率为150 W,溅射压强为1.0 Pa条件下制备的样品具有良好的晶粒分布。随溅射功率从80 W增大到160 W,样品电阻率由4.0×10-7Ω·m逐渐减小到1.9×10-7Ω·m;而随溅射压强从1 Pa增至3 Pa,样品电阻率由1.9×10-7Ω·m增加到7.1×10-7Ω·m。 相似文献
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目的 为揭示进气压力的变化对涡旋膨胀机内部流动特征及性能参数的影响机制,探究其对膨胀机效率及实际回收功率的影响规律。方法 以余热回收有机朗肯循环中的涡旋膨胀机为研究对象,利用STARCCM+软件,采用重叠网格技术对涡旋膨胀机内部计算流体域进行非稳态离散求解,分析涡旋膨胀机流场变化特性以及性能参数的变化规律。结果 在出口压力不变的条件下,随着进气压力的上升,压力场分布梯度增大;进、出口流量均呈现周期性波动,出口流量的波动幅度明显小于入口流量的波动幅度。填充系数的大小一定程度上反映了膨胀机内部的泄漏程度或流动阻力大小,观察到进气压力为0.75 MPa时填充系数最大,此时工质的流动阻碍相对更小,平均质量流量也最大。涡旋膨胀机等熵效率、输出功率均随进气压力的增大而增大。结论 涡旋膨胀机输出功率的优化与多种因素相关,要综合考虑进出口实际焓差和平均质量流量等因素的影响,只考虑单方面因素缺乏一定的合理性。 相似文献