制备ZnO压电薄膜的射频平面磁控溅射装置

本文叙述了射频平面磁控装置的原理，结构特点，射频源及阻抗匹配网络，基片温度控制等方面的问题。在该种类型的装置上已淀积出了高度取向的优质ＺｎＯ压电薄膜，成膜速率比普通射频溅射提高５～１０倍。并在圆筒形钟罩外增设磁场线圈以增强靶表面水平磁场。实验中，测定了靶表面合成水平磁场的分布。对一些问题进行了讨论。     

自动刻图中的误差分析

在声表面波工艺中,原图位置误差对器件性能的影响是显著的,已经报导了用解析法和模拟法对器件性能与制造公差关系所作的研究,结果表明造成指位误差的一个重要原因是刻图误差。分析了一般手工刻图的误差原因,认为研制适于SAW刻图特点的控制机改造手工刻图以提高刻图精度是十分必要的。本文扼要介绍了SKK-1型刻图控制的结构及主要指标。讨论了试刻图中存在的若干问题及对原图误差的影响。说明了试刻线条的取样方法给出了测量结果,试用的结果表明刻图的相对和绝对误差值均为微米量级。