液态金属离子源发射尖的制备工艺与技术

发射尖是液态金属离子源(LMIS)的关键部件之一，其性能的优劣直接影响到整个离子源的工作稳定性。通过对系统软件和硬件的设计，开发了一套发射尖自动腐蚀装置，该装置可以对发射尖腐蚀过程中的速度和深度以及腐蚀电压进行控制，实现发射尖腐蚀工艺的重复性、可靠性，从而为液态金属离子源以及聚焦离子束系统的研制、开发提供了一个有效的辅助工具。     

液态金属离子源发射系统电场的模拟分析

发射系统是液态金属离子源的关键部件之一，它的性能的优劣直接影响到整个离子源的工作稳定性和可靠性。因而对其发射系统进行仿真分析，可以很好地指导液态金属离子源的设计制造。本文采用国际上重视的动态喷流柱模型，利用模拟电荷法对液态金属离子源的发射系统的电场进行了计算分析，画出了发射尖端电场强度随不同参数变化的曲线，得出发射尖端表面场强与球冠半径、发射体突出臂长度密切相关，而与引出电极的结构关系甚小的结论，因此液态金属离子源发射特性（如角电流强度）的改善，必须在发射尖的设计制作上下功夫。从而为液态金属离子源的设计提供了一个有效的辅助工具。     

聚焦离子束装置中的工件台及控制系统

聚焦离子束技术(FIB)是一种集形貌观测、定位制样、成份分析、薄膜淀积和无掩模刻蚀各过程于一身的新型微纳加工技术。几十年来,随着关键技术的不断突破和完善,得到了前所未有的发展,所突破的关键技术之一就是精密工件台的使用。     

基于DSP的混合悬浮控制系统的硬件设计

选用控制领域性价比较高的DSP作为控制器,设计了磁悬浮控制系统.通过实验实现了系统的稳定悬浮,验证了设计的合理性.     

基于MATLAB语言的异步电动机起动过程分析

本文从异步电动机α，β，0坐标系统的数学模型出发，利用Matlab语言的Simulink功能给出了异步电动机的一个通用而简单的动态仿真模型，并把该模型应用于异步电动机的起动过程分析研究中，通过实例验证了模型的正确性，并证明了该模型具有快捷、灵活、方便、直观等一系列优点，使用时只需调用该模型并置入相应的电机参数即可，从而为异步电动机调速系统及控制系统的仿真研究提供了一种性能可靠、使用方便的电机仿真模型。     

纳米聚焦离子束系统液态金属离子源的研制

叙述了为纳米聚焦离子束装置研制的镓液态金属离子源的制备.发射尖的腐蚀采用自主开发的一套发射尖腐蚀设备腐蚀而成,该设备保证了源尖腐蚀工艺的可靠性和可重复性,腐蚀后的发射尖曲率半径在0.5～5μm之间.液态金属储备槽采用同轴针形结构,槽的材料采用高温下不易与金属镓发生反应的金属钼,这种源结构的优点是可以调节发射尖伸出合金槽的长度,储备的液态金属多,减少了液态金属蒸发对系统造成的污染,源发射尖到达寿命后结构仍可使用,该源具有良好的发射特性(达到100μA)、长寿命(1000h以上)和稳定度.该源与纳米聚焦离子束系统结合,将为纳米离子束加工带来新的发展前景,从而为研究其他单质源或合金源提供经验.     

聚焦离子束曝光技术

聚焦离子束技术是一种集形貌观测、定位制样、成份分析、薄膜淀积和无掩模刻蚀各过程 于一身的新型微纳加工技术。它大大提高了微电子工业上材料、工艺、器件分析及修补的精度和速 度,目前已经成为微电子技术领域必不可少的关键技术之一。对聚焦离子束曝光技术作了介绍。     

集成电路制造中的三束技术

集成电路制造工艺技术种类繁多,包括光刻、刻蚀、氧化、扩散、溅射、封装等。作为代表性的先进工艺技术是电子束、离子束和光子束加工技术,俗称三束技术。对三束技术做了介绍。     

聚焦离子束加工技术及其应用

对聚焦离子束加工技术在集成电路芯片的诊断与修改、修复光刻掩模缺陷、制作透射电镜样品以及多用途微切割上的应用作了详细介绍。     

PIC单片机在瓦斯报警设备中的应用

本文简要介绍了在单片机世界里日益成为主流产品的PIC单片机,并把它应用到瓦斯检测设备中的实际设计中,给出了系统硬件、软件、及电磁兼容性的设计方法.实践证明该系统性能稳定,抗干扰能力强,测量精度高,具有较高的实用价值.