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金属Sn氧化薄膜的真空退火与原位XPS测量 总被引:3,自引:0,他引:3
本文研究了在真空退火过程中金属Sn氧化薄膜表面L元素Sn和O的化学性质.利用X射线光电子能谱(XPS)的表面分析方法,发现在金属Sn氧化薄膜的表面上存在大量的吸附氧粒子(O-和O-2)提高真空退火温度,吸附氧粒子的数量增加;同时吸附氧粒子的负电性变弱.当退火温度低于350℃时,吸附氧粒子数量的增加是起因于SnO2→Sn2O3的转变;在这种情况下,可以观察到Sn2O3是相对稳定的金属Sn氧化物,继续提高退火温度,达到400℃时,Sn在金属Sn中的相对含量急剧增大,Sn在金属Sn中相对含量增加的原因与金属Sn的价态Sn3+→Sn0的转变相关在这个转变过程中伴随着O的释放和薄膜表面氧粒子的进一步堆积.与温度低于350℃时的退火条件相比,XPS的测量也发现,在400℃的退火温度下;SnO2相对于Sn2O3反而成为比较稳定的金属Sn氧化物.还讨论了金属Sn氧化薄膜表面上吸附氧粒子的吸附状态以及吸附状态与退火温度的关系. 相似文献
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SnO2薄膜具有良好的光学特性,优良的气敏特性越来越受到人们的普遍重视。本文就各种掺杂对SnO2薄膜性能的影响进行了综合评述,并探讨了掺杂作用机理。 相似文献
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采用旋叶式探测器布设成方阵获取空中目标信息,并依据旋叶式探测器结构和静电感应原理,推导出对空中目标的定位算法.基于定位算法编写了定位程序,能实现对目标的实时定位,定位算法可行. 相似文献
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马黎君 《建设科技(建设部)》2002,(7):35-36
气体传感器在社区安全监控中占据越来越重要的作用,关于气体传感器的研究越来越受到人们的关注。本就目前使用的气体传感器的设计原理,种类以及在物业管理中的应用进行了介绍。研究了气体传感器的发展动态。 相似文献
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马黎君 《北京建筑工程学院学报》2000,16(3):60-65
采用射频反应溅射技术 ,分别在Si单晶及 70 5 9玻璃基片上沉积SnO2 薄膜。X射线衍射测量结果表明 ,主要结构为非晶态。对样品进行了退火处理 ,发现随着退火温度的升高 ,各衍射变高变锐 ,结晶度提高 ,薄膜逐步过渡到多晶态的结构 ,高于一定的退火温度时薄膜呈现四方金红石结构 ,并具备 (10 1)方向的取向特征。研究了退火条件与薄膜结构的关系 ,初步讨论了薄膜择优取向的机制 相似文献
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采用粒子网格(PIC)法与Monte Carlo碰撞(MCC)模型相结合的方法(PIC/MCC法),研究了在射频空心阴极放电系统中,负直流偏压(-10~-50 V)对放电特性的影响。通过模拟获得了在不同的外加负直流偏压下,空心电极孔内的电子密度、径向电场、轴向电场等参数的变化。计算结果表明,随着偏压从-10增加到-50 V,阴极孔内电子密度和径向、轴向电场逐渐增大;加偏压的孔内电子密度和径向、轴向电场比不加偏压的更大。从放电早期到达到稳定放电的过程中,电子逐渐从接地阳极附近移入空心电极孔内,孔内电子密度和径向、轴向电场随时间增长而增大;在同一时刻,放电系统施加偏压的孔内电子密度和径向、轴向电场比不加偏压的更大。达到稳定放电后,孔内电子密度和径向、轴向电场等不再发生变化。 相似文献
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掺杂对SnO2薄膜性能影响研究 总被引:1,自引:0,他引:1
SnO2薄膜具有良好的光学特性,优良的气敏特性越来越受到人们的普遍重视,本文就各种掺杂对SnO2薄膜性能的影响进行了综合评述,并探讨了掺杂作用机理。 相似文献
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马黎君 《北京建筑工程学院学报》2003,19(1):72-76
SnO2薄膜的成膜机制是研究其结构的一项重要内容,本文就射频反应溅射成膜过程中影响成膜质量的因素进行了讨论,给出了薄膜形成过程的初步模型,分析了影响薄膜成长和特性的因素。 相似文献
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