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采用一种简单的低温固相法制备了YF3∶Yb,Er纳米晶,重点探究了烧结温度、烧结时间对纳米晶微结构及发光性能的影响。通过XRD、SEM和FA对样品进行了表征。XRD结果表明:烧结温度达到400℃,烧结时间达到1h,即可获得正交相的YF3∶Yb,Er纳米晶;SEM分析表明:制备的YF3∶Yb,Er纳米晶呈现光滑的类球形,粒径随烧结温度升高及烧结时间增加而变大;FA结果显示:在980nm红外激光激发下,样品的可见光发射峰分别位于波长409、524、547和657nm处,其强度与烧结温度、烧结时间正相关。 相似文献
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磁性流体制备技术的现状与展望 总被引:11,自引:0,他引:11
对国内外各种磁性流体制备技术进行了分类,并介绍了各种方法的原理和优缺点,同时对今后磁性流体制备技术的发展方向提出了展望。 相似文献
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采用温和水热法制备了七氟钇锶(Sr_2YF_7):镱(Yb),铥(Tm)纳米晶(Sr2YF7∶Yb,Tm纳米晶),并对其微结构、形貌、粒径、发光性能进行了表征。结果显示,制备的Sr_2YF_7:Yb,Tm纳米晶为四方晶相结构,其形貌为类球型,平均粒径34nm;在980nm红外光激发下,其发射峰分别位于463nm、480nm、650nm处,I_蓝/I_红≈43,无紫外及红外发射峰出现,获得了上转换单色蓝光。依据发光强度与激发功率的关系,确定样品的蓝光与红光发射均为三光子过程,并分析了其上转换发光机制。 相似文献
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软溶液工艺(SSP)在先进无机材料领域的应用及进展 总被引:15,自引:2,他引:13
软溶液工艺(soft solution processing简记为SSP)是近年国际上发展起来的先进材料制备的重要工艺技术,也是具有环境协调性的工艺技术,本文概枋了软溶液工艺技术的基本原理,特点及其在先进无机材料制备中的应用和发展,重点介绍软溶液工艺的几种技术(包括水热技术,电化学技术)及其在先进无机材料制备中的应用原理,范围和特点,指出水热电化学技术是很有发展前景的软溶液工艺,最后对软溶液工艺技术的发展前景和条件进行了展望和评述。 相似文献
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在含有Li+、Co2+、Ni2+、Mn2+离子的混合溶液中加入(NH4)2CO3作沉淀剂,通过一步共沉淀反应得到含有四种金属离子的混合沉淀前驱体。前驱体经烘干,研磨后在不同温度(700~1 000 ℃)及不同时间(6~24 h)条件下进行烧结,即得到LiNi1/3Co1/3Mn1/3O2粉体。分别通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)及循环伏安(CV)、交流阻抗对制备粉体的微结构进行表征和对样品的电化学性能进行测试。结果表明:获得的LiNi1/3Co1/3Mn1/3O2粉体为-NaFeO2层状结构,颗粒分布均匀,放电比电容高,阻抗小。其中在900 ℃下烧结12 h所得的LiNi1/3Co1/3Mn1/3O2粉体电化学性能最优。当电压窗口在(0~1.4)Vvs.SCE、扫描速度为5 mVs-1、电解液为1 molL-1 Li2SO4溶液时,其比容量可达399.46 Fg-1;并且其阻抗也最小。 相似文献
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(Bi4-x,Lax)Ti3O12铁电陶瓷性能研究 总被引:2,自引:0,他引:2
采用溶胶-凝胶(Sol-Gel)技术制备了(Bi4-x,Lax)Ti3O12(BLT)干凝胶粉体,并用此粉体制备了陶瓷。利用XRD、SEM等手段分析表征了陶瓷的结构、表面形貌及介电性能。结果表明,采用本文工艺技术制备的陶瓷为类钙钛矿结构,表面致密,陶瓷的极化场强约为4.5kV/mm;BLT陶瓷介电性能为:介电常数ε=425(1kHz),介电损耗tanδ=0.05(1kHz)。掺杂量的研究表明,当x≥0.4时,La的引入对介电常数和介电损耗有较大的影响,即使介电常数升高,介电损耗降低。 相似文献
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采用水热法制备了Ba1-xPbxWO4固溶体微晶,通过XRD、SEM、荧光分析等测试手段,研究了微晶的晶相结构、表面形貌及室温光致发光特性。结果表明,当x从0~1.0变化时,Ba1-xPbxWO4固溶体微晶的表面形貌由四方锥型向树枝状变化。在270nm紫外光激发下,其发射光谱均呈现两个发射峰,即位于320nm左右的弱发射峰和400~470nm左右的强发射峰,前者为WO42-四面体的本征发射,其强度和波长随x值变化不大;而后者为掺入的Pb2+引起的激活发射峰,掺入Pb2+量(即x)对其强度和发射波长有较大的影响。当x=0.03时,微晶发射强度达到最强。 相似文献