激光定位工件台系统干涉仪设计

本干涉仪是电子束曝光机之激光定位工件台的重要组成部分,它提供了 X—Y方向100×100毫米位置测量。为实现干涉系统的0.04微米测量精度,对其结构设计严格要求。本设计解决了干涉仪温度变形,长期稳定性,光学系统间几何位置精确调整及调后位置保持不变等问题。     

对标准记处理的改进亚象素细分定位算法

提出一种的适合对准标记图像处理的改进亚象素细分定位算法，并提供了完善这种定位算法的缩小检测窗口的方法。     

掩模一样片对准台

介绍一种用于接近式曝光机的掩摸一样片对准机构，讨论了系统组成及结构设计，对主要部分作了精度分析，并给出了系统各部分的主要技术指标。     

GFP自动调焦光栅动态光刻头系统

本文论述首次在光栅刻划机中,应用自动调焦传感技术的光栅动态光刻头系统(获得国家发明专利)。它具有调焦精度高,范围大,适用于研制生产高精度的光栅母尺以及高精度大尺寸的光栅尺。从而为刻划高分辨率、大量程的优质光栅尺找出了新途径。文章对动态光刻头系统设计参数的选择,主要技术途径及研制结果作了介绍。