全文获取类型
收费全文 | 98篇 |
免费 | 9篇 |
国内免费 | 4篇 |
专业分类
电工技术 | 10篇 |
综合类 | 4篇 |
化学工业 | 7篇 |
金属工艺 | 6篇 |
机械仪表 | 8篇 |
建筑科学 | 2篇 |
能源动力 | 1篇 |
轻工业 | 8篇 |
水利工程 | 4篇 |
石油天然气 | 2篇 |
无线电 | 29篇 |
一般工业技术 | 18篇 |
冶金工业 | 1篇 |
自动化技术 | 11篇 |
出版年
2023年 | 6篇 |
2022年 | 5篇 |
2021年 | 10篇 |
2020年 | 7篇 |
2019年 | 13篇 |
2018年 | 5篇 |
2017年 | 4篇 |
2016年 | 6篇 |
2015年 | 5篇 |
2014年 | 8篇 |
2013年 | 5篇 |
2012年 | 3篇 |
2011年 | 7篇 |
2010年 | 4篇 |
2009年 | 3篇 |
2007年 | 3篇 |
2006年 | 1篇 |
2005年 | 9篇 |
2004年 | 1篇 |
2002年 | 1篇 |
2001年 | 1篇 |
2000年 | 4篇 |
排序方式: 共有111条查询结果,搜索用时 0 毫秒
1.
评测中国计量科学研究院(NIM)新建反射试验场测试装置的准确性,需要足够准确的基准值。通过分析对比矩量法模型与实测模型,设计制作了一种小馈源偶极子天线,根据矩量法准确性与收发天线间距无关这一特性的近场法,分析了近场法在实测中的误差缩减效应,然后据此验证了基准值的准确性(在30 MHz~1 GHz频段24个典型频率点的场地插入损耗偏差小于0.22 dB,相当于天线系数误差小于0.11 dB)。在30 MHz~1 GHz频段10 m距离条件下对NIM新建测试装置的评测结果为:在24个典型频点,水平极化时偏差小于0.26 dB,垂直极化时偏差小于0.34 dB;在频率间隔1 MHz的扫频范围内,垂直极化时偏差小于0.6 dB。 相似文献
2.
月表环境无线电波传播分段预测模型 总被引:1,自引:0,他引:1
针对经典无线电波传播模型不适用于月球特殊的传播环境问题,提出一种月表环境下电波传播损耗分段预测模型。该模型首先建立包含自由空间段、月面反射段和月球绕射段的理想分段预测模型,并给出不同区间内传播损耗预测算法,然后考虑传播路径剖面上多重障碍物导致的额外损耗,以及其对分段区间参数的修正方法。将其应用于美国国家航天局提供的月表实际场景,仿真结果表明该模型预测结果与“阿波罗”登月工程获得的实测数据非常吻合,可用于辅助月表无线通信系统的参数设计和性能评估。 相似文献
3.
LonPoint系统是Echelon公司推出的基于LonWorks技术的监控网络系统新产品。 LonPoint系统是为了在楼宇自动化和工业控制领域将传感器、执行器以及LonMark设备集成在一起构成一个性价比高、具有互操作性、开放的监控网络而设计的一系列产品。和传统的分级式结构监控网络相比,LonPoint系统提供了一个对等结构的系统,在这种结构中,每个控制点都可以执行一定的控制过程。LonPoint系统将监控功能分散到整个网络上,大大降低了安装和整个生命周期的成本,同时由于使单个错误的发生率降… 相似文献
4.
5.
碳纳米管涂层已在低温工作环境中大量应用,所选用的粘结剂在很大程度上影响其红外吸收性能及与基体的结合性能。分别用水玻璃粘结剂和磷酸盐粘结剂与碳纳米管、镍粉混合制成涂料,并将其涂覆在铜基体表面。采用XRD和SEM对涂层的红外吸收性能、物相、晶体结构及形貌进行了表征;测试了涂层的抗热震性能。结果表明:当粘结剂为磷酸盐、含量为90%~85%时,1 400~3 570 cm~(-1)(2.80~7.14μm)波段内涂层的平均光吸收度达1.992~2.084,红外吸收性能最佳,抗热震次数可达35次(25~120℃),满足了用户要求(10次)。 相似文献
6.
红外吸收涂层具有优异的红外吸收能力和抗热震性能而广泛应用于红外探测领域。对铜基红外吸收涂层的制备关键工艺进行了研究,重点介绍红外吸收基料制备工艺和涂层制备工艺,同时对铜基红外吸收涂层的红外辐射性能、微观形貌(SEM)和X射线衍射(XRD)图进行了分析。结果表明:红外吸收基料的配方为45gSiC、20g石墨粉、35gFe_2O_3,采用N_2气氛保护、烧结温度为分段式升温时,基料的透过率低,吸收率高;铜基红外吸收涂层表面存在结晶体,无裂纹,涂层中产生了Fe_3Si、SiO_2等新物相,新物相的产生提高了涂层的红外辐射性能。 相似文献
7.
8.
采用射频磁控溅射技术,在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了钛酸铋(Bi4Ti3O12,简称BIT)薄膜。研究了衬底温度及后续退火处理对薄膜结构和表面形貌的影响。结果表明:适宜的衬底温度为200℃。随着退火温度(650~800℃)的升高,BIT薄膜的结晶性变好,晶粒尺寸增大,c轴取向增强。当退火温度达到850℃时,开始出现焦绿石相;700~800℃为适宜的退火温度,在此条件下得到的BIT薄膜结晶良好,尺寸均匀,表面平整致密。 相似文献
9.
10.