磁控溅射工艺参数对Cu,Al薄膜与Gd基底附着性的影响

为了探讨Gd表面溅射保护膜的附着性能,利用直流磁控溅射技术在Gd基体上分别镀Cu和Al膜.用扫描电镜(SEM)和能谱仪对薄膜进行表征,用引拉法测定了薄膜的附着强度.结果表明:A1膜表面质量好,Al/Gd界面结合好,附着强度高,在优化工艺参数条件下薄膜附着强度可达到27.60 MPa;Cu膜表面质量较差,Cu/Gd界面结合差,附着强度低,在优化工艺参数条件下薄膜附着强度最高仅为3.02 MPa.     

基于多尺度小波变换的双阈值图像散斑噪声消除

Donoho提出的基于小波变换的软阈值散斑噪声的消除方法现在已广为流行。对其阈值选择的难确定进行改进,提出了采用双阈值的方法,并对双阈值处理后剩下的系数进行多尺度小渡处理。实验证明了该算法的可行性和优越性。