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以纳米TiO2为原料,六亚甲基四胺(HMT)为掺杂N源,采用高能球磨法合成了纳米TiO2(N)粉末。利用XRD、FT-IR、UV-Vis光谱、纳米粒度仪和光催化降解实验对其进行结构及光催化性能表征。研究结果表明,经过氮掺杂的纳米TiO2主要为锐钛矿晶型,晶粒尺寸随球磨时间的增加呈变大趋势。对可见光具有良好的吸收性能,其吸收边红移至530 nm左右,禁带宽度减小至2.34 eV。当太阳光照射30 min时,亚甲基蓝溶液的降解率达88%以上,比未掺N的样品提高了7%,体现出良好的可见光催化特性。 相似文献
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目的探究钢基表面TiN基涂层在海洋环境中的耐磨蚀性能。方法采用电弧离子镀技术,在304不锈钢和单晶硅表面分别沉积TiN、TiBN、TiBN/TiN涂层,并对3种涂层样品的表面–截面形貌、摩擦系数、在人工海水中的电化学性能和摩擦腐蚀行为进行测试。结果形貌表征和干摩擦测试结果显示,TiBN和TiBN/TiN涂层有着比TiN柱状晶更加致密的微观结构,3种涂层的摩擦系数相差不大,比304SS的摩擦系数低。在人工海水环境中的电化学测试结果表明,TiBN/TiN涂层的耐腐蚀性能最佳,TiBN涂层次之,TiN涂层则表现出比304不锈钢基底更差的耐腐蚀特性。在发生摩擦腐蚀的过程中,3种涂层的电位(OCP)均发生了下降。结论利用电弧离子镀技术在304不锈钢表面沉积的单层/多层TiN基涂层,在人工海水环境下,发生的摩擦会增加涂层发生腐蚀的趋势,结构致密,表面易形成钝化膜的涂层,其耐磨蚀性较好。 相似文献
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SiC是一种宽带隙半导体材料,在高温,高频在,大功率,光电子及抗辐射等方面具有巨大的应用潜力,介绍了国外对该材料及其薄膜进行辐照的一些结果,并指出开展SiC及其薄膜辐照效应研究的重要意义,预测了其发展方向和应用前景。 相似文献
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模拟研究常闭和常开工作模式下的平面栅极型碳纳米管场发射电子源 总被引:1,自引:1,他引:0
采用数值模拟的方法对比性地研究了常闭和常开工作模式下平面栅极型碳纳米管场发射电子源.静电场的数值计算结果显示:常闭工作模式下该电子源中阴极电极的表面电场分布不均匀,边缘处的高电场易导致其上的碳纳米管烧毁,从而引起场发射电流衰减.为了解决此问题,提出将常开工作模式用于该电子源,并证实常开工作模式能够用于该电子源,并有利于解决电流衰减问题.因此,相对于常闭工作模式,常开工作模式更适合平面栅极型碳纳米管场发射电子源. 相似文献
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利用超声喷雾热解法在玻璃衬底上制备了La3+掺杂纳米TiO2涂层,并在500℃及空气氛围下退火2h。利用XRD、拉曼光谱、SEM和UV-Vis等测试手段对其晶体结构与光学特性进行了分析,研究了不同La3+掺杂浓度对TiO2涂层结构与光学特性的影响。XRD和Raman光谱结果表明,制得的涂层为锐钛矿型纳米TiO2结构,La3+掺杂对纳米TiO2的晶体结构没有明显的影响,抑制了其晶体的生长。UV-VIS透过光谱表明,La3+掺杂导致涂层光吸收边红移及禁带宽度减小。当La3+掺杂浓度为1%时,样品的禁带宽度减小到2.93eV,扩大了纳米TiO2涂层的光谱吸收范围。 相似文献
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