全文获取类型
收费全文 | 82篇 |
免费 | 13篇 |
国内免费 | 9篇 |
专业分类
电工技术 | 3篇 |
综合类 | 8篇 |
化学工业 | 8篇 |
金属工艺 | 5篇 |
机械仪表 | 4篇 |
建筑科学 | 13篇 |
矿业工程 | 2篇 |
轻工业 | 5篇 |
水利工程 | 3篇 |
无线电 | 7篇 |
一般工业技术 | 1篇 |
冶金工业 | 8篇 |
自动化技术 | 37篇 |
出版年
2024年 | 1篇 |
2023年 | 5篇 |
2022年 | 2篇 |
2021年 | 2篇 |
2020年 | 5篇 |
2019年 | 2篇 |
2017年 | 1篇 |
2016年 | 5篇 |
2015年 | 3篇 |
2014年 | 6篇 |
2013年 | 4篇 |
2012年 | 9篇 |
2011年 | 6篇 |
2010年 | 8篇 |
2009年 | 7篇 |
2008年 | 2篇 |
2007年 | 3篇 |
2006年 | 1篇 |
2005年 | 4篇 |
2004年 | 7篇 |
2003年 | 3篇 |
2002年 | 6篇 |
1996年 | 1篇 |
1995年 | 1篇 |
1992年 | 1篇 |
1991年 | 4篇 |
1990年 | 2篇 |
1989年 | 1篇 |
1963年 | 1篇 |
1961年 | 1篇 |
排序方式: 共有104条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
2.
深入地分析了"dcc"对库函数的研究,针对运行在ARM处理器上的应用程序,对静态库函数识别提出在二进制级别上动态提取库函数特征文件的方法.该方法利用ARM处理器汇编特征提取函数模块,并在此基础上根据汇编代码的寻址方式编码特征提取模式文件并进行动态签名的生成,结合哈希算法对生成的待识别应用程序函数签名和已有签名文件进行特征匹配,识别库函数相关信息.该方案能准确的识别库函数,并有效地解决识别过程中库文件过多和匹配效率之间的矛盾. 相似文献
5.
反编译中数据类型自动重构技术研究 总被引:1,自引:1,他引:0
类型重构作为反编译的关键问题,对程序的可读性及可理解性具有重要的作用。给出了汇编基础上数据类型自动重构的算法。对于简单类型,通过基于格的类型属性操作,用迭代算法来实现类型恢复;对于复杂类型,通过构建标记等价类来恢复结构化类型的框架,而后通过收集框架内可访问的偏移集合并利用简单类型恢复的算法对偏移对象类型进行恢复,从而推导出复杂结构类型。该算法是目前正在开发的类型重构工具的关键技术,它不仅能够准确地重构简单类型,而且能够准确地解析复杂类型,且准确率较高。 相似文献
6.
针对工程中双馈感应电机转子电流控制器参数整定的问题,提出一种利用内模控制理论设计转子电流控制器的鲁棒控制方法。首先定义内模控制的灵敏度函数和互补灵敏度函数,并推导双馈感应电机转子电流控制系统传递函数,建立了转子电流内环的内模数学模型。IMC控制器的设计以平方积分误差值和鲁棒稳定M值为准则,并与传统比例积分控制器进行比较。通过对1.5 MW双馈感应电机的MATLAB/SIMULINK仿真表明,本文方法稳态跟踪精度高、动态响应快、对模型误差和外界干扰具有较好的鲁棒性。最后在11 k W的双馈风机实验平台上验证了所提方法的有效性。 相似文献
7.
采用共沉淀法、以稀土为助剂制备了Cu-Zn-Fe-La新型多元复合催化剂,并进行了表征;该催化剂不含铬,避免了铬的污染;考察了该催化剂在癸二酸二乙酯催化加氢合成1,10-癸二醇反应中的性能,并对其合成工艺进行了探索。结果表明,在合成1,10-癸二醇中,该复合催化剂的加氢活性达到或者超过目前市场上同类催化剂;优化的加氢工艺条件为:m(催化剂)∶m(癸二酸二乙酯)=0.06,反应温度为220~240℃,反应压力为18~20 MPa;在优化反应条件下,产品收率较高,产品质量较好。该研究为1,10-癸二醇的工业生产提供了技术借鉴。 相似文献
8.
文章简介多播的安全问题及其研究现状,分析决定多播安全机制的因素,提出安全多播参考框架及其实现模型与机制,保障类似于视频会议的大型多播组的安全。 相似文献
9.
自新中国建国以来,在党中央和毛主席的正确领导下,机电灌排事业有了很大的发展。目前,全国机电灌排动力已达600多万马力,相当于解放前几十年发展总量的60多倍。目前,全国80%以上的县(市)都有了灌排机械,40%以上的县(市)开始使用电力灌排。发展较早较快的江苏 相似文献
10.
SiO2抛光液对A1N基片抛光性能的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
针对AlN基片CMP平坦性问题,从pH值、磨料粒度以及磨料的质量分数等方面研究了抛光液参数对抛光效果的影响。通过对AlN基片进行抛光实验,确定pH为10.5~11.5时,采用大粒径、高质量分数纳米SiO2溶胶作为磨料,有利于抛光速率的提高。利用纳米SiO2溶胶、去离子水、pH调节剂和稳定剂自主配制抛光液A,与纯水按质量比1∶5稀释后,在压力1.8MPa、转速60r/min、流速340mL/min条件下,对AlN基片进行抛光,抛光速率为0.5μm/min。抛光1.5h后,AlN基片的表面粗糙度可达28nm,表面无划痕。 相似文献