首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   14篇
  免费   0篇
化学工业   1篇
金属工艺   2篇
能源动力   1篇
无线电   1篇
冶金工业   9篇
  1996年   1篇
  1994年   1篇
  1989年   2篇
  1988年   1篇
  1986年   3篇
  1985年   2篇
  1984年   1篇
  1980年   1篇
  1957年   1篇
  1955年   1篇
排序方式: 共有14条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
2.
一、调查研究与科技文献检索的重要意义当代科学技术发展的特点是速度非常快。从前,发明蒸汽机化了八十年,发明电动机化了六十五年,发明电话化了五十六年。本世纪五十年代以来,由于科学技术已有一定基础,加上科技情报交流比较快,因  相似文献   
3.
附加磁场的熔体直拉法(MCZ法)是近年开发的一种颇有前途的生长优质硅单晶的新工艺技术。由于磁场抑制了硅熔体中的热对流,减少了熔体的温度波动,因而能减少晶体的生长条纹,降低或控制晶体中的氧含量,提高晶体结构完整性,显著降低单晶硅片的翘曲度,并能拉制高阻硅单晶。从而为超大规模集成电路提供了优质硅材料。本文系统论述了MCZ法的发展历史、方法与原理、工艺与设备、近年的新成果和发展前景。  相似文献   
4.
我国对电解铜规格的要求是比较高的,含铜量要在99.95%以上,表面要光洁,不能有粗粒子。现在一般厂都已能符合规格的要求,阴极铜的含铜量一般都在99.97%左右,含铜量在99.98—99.99%的产品也很多。纯度很高的电解精铜固然可以在纯净的电解液和较低的电流密度下得到,但这就大大的降低了电解铜的生产量;在设备方面(如电解槽所用的木料,青铅皮、沥青等)和物料方面(如硫酸、硫酸铜等)的利用率也因此降低。根据苏联工厂试验结果:用每平方米300安培的高电流密度进行电解,仍能得到合乎规格的阴极铜,  相似文献   
5.
在电解铜的生产过程中,从阳极溶解的杂质,不断在电介液中积累,杂质含量达一定限度时,电解液就不能继续使用,否则就要影响产品的质量。因此纯淨的电解液是保持电解铜质量的先决条件。到目前为止,处理废电解液时,一般按下列步骤进行操作:(一)加铜中和,结晶出一部分硫酸铜;(二)结晶后母液,用铅银不溶阳极提铜,提出的粗铜进入平炉复煉,成为阳极板;(三)脱铜后的母液继续蒸浓;(四)冷却、结晶,去  相似文献   
6.
一、前言如果说改造和振兴上海是一篇浩瀚锦绣的文章,那么写好改造和振兴上海有色金属工业这一章,具有特别重要的意义。中央领导同志曾明确指示:有色金属工业必需放在“七五”计划和今后几个五年计划的重要地位,首先因为有色金属非常重要,其次,我  相似文献   
7.
用常规CZ法拉制的硅单晶质量与VLSI对材料的要求有较大差距。MCZ法可以抑制硅熔体的热对流,因而改变了硅单晶的氧含量和其他性能。作者采用VMCZ法详细地研究了磁场对硅熔体波动、温度起伏的影响,进而研究了磁场对热场分布、磁场对硅单晶中杂质的分布、磁场对硅单晶中氧、碳含量、磁场对硅单晶中微缺陷等的影响。发现:VMCZ的结果与资料报导的HMCZ数据相比有较大差别。通过调整拉晶参数也只能有限度地改善硅单晶的性能。  相似文献   
8.
本文介绍了使用扫描电镜(SEM)、扩展电阻(SR)、瞬态电容(c-t)和化学腐蚀等技术,对采用不同吸除工艺的重掺Sb衬底的硅外延片(N/N+)性能进行了研究。结果表明,综合吸除技术不仅能有效地改善W/N+硅外延片的电性能(τg)和明显地降低外延层上的表面缺陷密度,而且对硅片剖面的电阻率分布也无影响。文中还对综合吸除的机理作了初步探讨。  相似文献   
9.
一、前言如果说改造和振兴上海是一篇浩瀚锦绣的文章,那么写好改造和振兴上海有色金属工业这一章,具有特别重要的意义。中央领导同志曾明确指示:有色金属工业必需放在“七五”计划和今后几个五年计划的重要地位,首先因为有色金属非常重要,其次,我国有丰富的资源,是可以扬长的战场,而且有利可图。据此,在材料工业中,上海今后应着重发展有色金属工业。上海是一个生产有色金属冶炼产品、加工成材(含板、带、箔、管、棒、丝及异型材)和半导体材料的基地,产量较大,电解铜占全国四分之一;铜材占全国三分之一;锌材占全国三分之一;海绵钛占全国三分之一;单晶硅占全国二分之一;单晶锗占全国二分之一;稀土金属占全国五分之四;此外,还生产一定数量的有色重、轻、贵、高熔点、稀散等金属及其合金,以及各种有色金属粉  相似文献   
10.
硅片抛光工艺技术研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
硅片抛光是IC生产中的重要工序,为提高硅片和IC产品的质量。本文系统地介绍了HE系列新型高效抛光剂的制备方法、性能结构、抛光表面质量以及速率等,并探讨了抛光硅片的工艺技术,该技术经国内外几家大型专业厂生产线的实际应用,其效果良好。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号