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本工作建立了高纯水、高纯气(N_2、H_2、O_2、Ar、He);特种气体(硅烷、磷烷、二氧化碳、氯化氢、甲烷)以及硅片,高纯水用的各种树脂、塑料,各种反渗透膜、超过滤膜中阴离子分析方法,对于F~-,Cl~-,NO_3~-,HPO_4~(2-)及SO_4~(2-)检测限分别为0.1,0.05,0.5,0.5,0.1ppb,并建立了半导体工艺废水中NH_4~+、NO_2~-、SO_3~(2-)、Br~-、CN~-和AsO_4~(3-)等离子的分析方法。用自制的小容积、灵敏度高的电导检测器以及自制的大体积定量管,代替了引进件。并改进了检测系统, 增加反压装置,降低了基线噪声,设计并制造了一套膜过滤及溶液吸收联用的气体采样装置,采用一次直接进样,大大提高了检测灵敏度(3倍),降低了检测限,从而首次成功的将这一分离技术应用在半导体工艺中,在国内外首次实现测定≤0.5ppb级超痕量阴离子不采用浓缩柱的技术,建立了快速、灵敏、可靠性强的离子色谱分析的新方法。 目前已为全国85个单位检验各种水质、原材料、气体等。该方法已定为中华人民共和国电子级水国家标准方法的仲裁方法。 相似文献
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