电沉积Ni—W—P活性阴极的制备研究

研究了电沉积Ni—W—P电极的析氢电催化活性、长期稳定性,并对其催化活性进行了分析。此电极具有优良的析氢电催化活性和长期电解稳定性,是制作活性阴极的材料之一。     

钛表面辉光等离子无氢渗碳的研究

采用双层辉光离子渗碳技术在本底真空度为 5×10-3Pa 的高真空下,用 99.999%的高纯氩气进行无氢渗碳。在整个工艺过程中,没有涉及到氢元素,实现了无氢渗碳。试样材质为 TA1 工业纯钛,用透射电镜(TEM)观察渗层结构;X 射线衍射(XRD)测定渗层的相组成;用 M200 耐磨试验机测定渗碳试样的耐磨性能;渗碳试样的磨痕表面状态用 TR240型粗糙度仪测定。渗碳层厚度大于 100 μm。表面层生成的是 TiC,基体仍为 α-Ti。近表面渗层维氏硬度为 6 000 MPa,表面的硬度远大于此值。摩擦系数 0.11。纯钛经过无氢渗碳后,与未经过处理的纯钛相比磨损量仅为纯钛试样的1/1 592.5。研究得出:钛材经过双辉等离子无氢渗碳后,不仅提高了表面的硬度,同时降低了摩擦系数,因而使耐磨性能得到了大幅度的提高。     

用双层辉光等离子法在钛表面制备的Ti-Pd合金层性能研究

采用双层辉光等离子冶金技术在纯钛表面制备了Ti—Pd合金层。其深度大约为90μm，Pd含量呈梯度变化，并出现了TiPd3，TiPd2，Ti2Pd3，Ti3Pd5，TiPd，Ti4Pd等6种化合物相和Pd相。合金层在100℃的NaCl饱和溶液＋HCl溶液以及40℃的8．6％H2SO4溶液中的耐缝隙腐蚀性能优于Ti0．2Pd合金；在室温80％H2SO4的溶液中，腐蚀速率仅为0．682mm／a，是Ti0．2Pd合金的18．2％：在室温30％HCl的溶液中，表面Ti—Pd的腐蚀速率仅为0．004mm／a，是Ti0．2Pd合金的12．5％。     

Mo丝网上双层Ir/W高温抗氧化涂层的制备与表征

为改善溅射依涂层与钼基体之间的结合力,在钼基体与依涂层之间制备了钨粘结层,并成功在钼丝网上制备了双层的铱/钨涂层。研究表明,钨粘结层的制备能有效改善铱涂层与钼基体之间的结合力,从而有效抑制铱涂层的剥落。对于制备态的样品,W粘结层与铱涂层以及钼基体之间未出现明显的互扩散。X射线衍射结果表明,溅射铱涂层为多晶结构且呈(111)择优取向生长。根据Movchan-Demchishin模型,所制备的双层铱/钨涂层的显微结构与“1区”结构类似,该结构表明所制备的涂层横向结合力弱,在拉应力状态下易发生开裂。     

聚变堆偏滤器钨涂层研究进展

钨涂层是最有希望的聚变堆偏滤器高热负荷面对等离子体材料。系统总结了钨涂层材料、连接及其制备研究进展,分析了钨涂层材料及其与热沉连接存在的问题,提出了偏滤器高热负荷面对等离子体钨涂层铁素体钢热沉材料(W/ODS)连续制备的发展方向,分析了钨涂层制备方法的优缺点,指出了电子束物理气相沉积(EBPVD)方法连续制备大面积的、显微结构可控的W/ODS的研发方向。     

PVD技术在镁合金表面防护领域的应用及研究进展

综述了近年来国内外镁合金表面PVD技术制备的膜层对其耐蚀性的影响研究,提出:PVD膜层能够降低镁合金的腐蚀电流,提高其耐蚀性;造成膜层失效的主要原因是由于膜层中存在的微孔等结构缺陷充当了腐蚀通道;通过膜层体系的结构设计、制备工艺参数优化等方法,可降低膜层结构缺陷、提高膜基体系耐蚀性.     

熔盐电解还原制备TiFe合金

在CaCl2熔盐中采用熔盐电解法由阴极的混合氧化物制备组分可控的TiFe合金。初步探讨了TiFe合金的形成机制,研究了电解时间对电解产物的影响。结果表明,混合氧化物的还原经历了从优先生成铁到逐步形成TiFe2、TiFe的合金化历程,中间产物包括CaTiO3、Fe：TiO4、TiO,电解过程中没有金属钛出现。扩散是混合氧化物熔盐电解反应的控制步骤。     

SDH系统常见故障处理及其维护方法

简要介绍了SDH光传输系统中运行维护人员所应掌握的一些基本知识,结果实践总结了光设备发生故障时的定位原则,常见故障分类,故障定位及排除的常用方法,日常维护中所应维护的内容和对维护人员所提出的要求。     

温度对钛精矿熔盐电解制备钛铁合金的影响

在CaCl2 熔盐中,以钛精矿为阴极,电解制备了钛铁合金,并对产物进行了XRD和SEM检测。对比不同温度下电解产物的结果表明,温度对扩散合金化过程影响显著,不同温度下电解产物的物相和结构有明显不同。850 ℃下电解的最终产物是颗粒大小为1 μm的TiFe2和Ti离散球型结构,而900 ℃下电解的最终产物是颗粒大小为3 μm的TiFe空间网状结构