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1.
蔡仲麟 《有色金属材料与工程》1986,(2)
日本理研计器公司开发用紫外线分析薄片(Wafer)表面状态的新仪器—“AC—1”。该仪器可在常温常压的大气气氛中,测定纯金属、合金、半导体、有机物等表面上保护层、有机物沾污层以及氧化膜和氮化膜的厚 相似文献
2.
蔡仲麟 《有色金属材料与工程》1986,(1)
日本三菱铝公司与名古屋试验所等协作,研究以铝合金为基体的陶瓷材料和纤维增强金属等复合材料;开发高压铸造法制造碳化硅晶须增强铝合金的复合材料获得成功。安装了300吨大型高压铸造锻压机,开始生产与汽车、航空、宇航工业所需的样品。该公司开发的预成形,高压铸造、挤压加工工艺,首先使碳化硅晶须预成形,然后将该成形体和铝合金熔液倒入金属模内固化,再在1000大气压的高压下铸造,生产出供挤压用的坯锭(坯锭直径可大到200毫米),其后,就可采用以往挤压铝合金所用的机器生产挤压材的样品。该工艺与美国ARco公司所用的粉末冶金法不同,是世界上首次开发的,对成本和材料的性能均有利。 相似文献
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