纳米复合永磁薄膜的微磁学模拟

介绍了微磁学理论的基本原理、计算机模拟的层次,最后简述了微磁学计算机模拟的常用方法及其在纳米复合永磁材料研究中应用的现状。     

溅射功率对NdFeB薄膜形貌的影响

采用直流磁控溅射方法在玻璃基片上制备出厚度约400nm的NdFeB薄膜,使用不同的溅射功率,利用扫描电镜分析不同溅射功率对薄膜微观组织的影响,并采用真空退火使之晶化,使用XRD衍射仪、扫描电镜分析晶化情况及组织变化,以期得到最佳的制备工艺.通过对30,50,100 W三组样品进行对比,得出以下结论:在30W功率下溅射,...     

Nd2Fe14B/α - Fe/Nd2Fe14B磁性三层膜的微磁学模拟

以Nd2 Fe14B/α - Fe/Nd2 Fe14B三层膜为对象,应用微磁学理论计算了该体系的磁滞回线,并对其磁性能与软磁层厚度的关系进行了分析.结果表明,当软磁层厚度小于临界尺寸(5nm)时,磁滞回线为矩形,三层膜完全耦合；当软磁层厚度为5nm时,最大磁能积可达到最大值642.51 kJ/m3.在所研究的软磁层厚度范围内,随着软磁层厚度的增加,三层膜矫顽力单调下降.