首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   12篇
  免费   0篇
  国内免费   5篇
金属工艺   5篇
无线电   6篇
一般工业技术   4篇
冶金工业   2篇
  1990年   3篇
  1988年   2篇
  1987年   2篇
  1986年   2篇
  1985年   4篇
  1984年   3篇
  1981年   1篇
排序方式: 共有17条查询结果,搜索用时 0 毫秒
1.
珠光体钢微观结构和断裂过程的TEM研究   总被引:6,自引:0,他引:6  
应用电子衍衬技术和扫描电镜等手段,对共析珠光体轨钢的微观结构和断裂过程,进行了观察和分析。研究了珠光体中铁素体和渗碳体的精细结构及两相界面结合特征.根据衍衬分析结果,从晶体学讨论了以片层结构为特征的这种钢的断裂过程。建议引入一个新的参数,即同取向晶团群(SOCC)的尺寸,作为评价珠光体钢韧性水平的实用宏观参数。  相似文献   
2.
黄孝瑛 《金属学报》1985,21(1):34-149
对镍铝合金的位错与层错结构及其运动规律,进行了电子衍衬观察.主要结果如下:1.固溶处理不同淬火速度对缺陷组态有重大影响,在大的淬火速度下,观察到空位作三维聚集形成的有特征形貌的宏观孔洞.2.固溶处理加形变,普遍观察到位错塞积现象,存在着一个出现塞积群的临界形变量.提出了一个定义塞积位错列密度的新概念,用它来讨论材料的强度问题较为合理.3.讨论了形变试样的某些位错反应,对扩展位错的运动规律进行了动态观察.  相似文献   
3.
应用 TEM、SEM 等技术,对共析钢中珠光体的断裂途径、两相的位错结构和界面结构进行了研究。在铁素体中,除α/2〈111〉型位错占主导地位外,还观察到〈112〉型位错,对它的形成机理进行了讨论。在铁素体中的渗碳体片端部观察到〈100〉型位错,讨论了它和铁素体沿{100}平面解理开裂的联系。对两相界面的精细结构进行了衍衬观察和分析。  相似文献   
4.
3.2 晶体缺陷的衍衬分析3.2.1■·■判据对晶体缺陷进行衍衬分析的基本关系式是(7)式或(11)式,缺陷的附加衬度是由公式中含(?)·■的项提供的。对位错而言,布氏矢量  相似文献   
5.
在低碳低锰钢中,有意加入较高含量(直至0.12%)的磷,可以明显改善冷轧和退火钢板的深冲性能,提高强度,国外已出现这类钢种,国内亦已研制成功,但十多年来,对磷的作用机理,并不清楚,各种解释,推测居多,未见发表可信的试验证据。对这种钢在形变和退火时的微观变化过程,亦研究不多。本文报导作者利用电子显微镜就这一问题进行研究所获得的结果,为优化钢的成分和工艺规范设计,提供了一定参考依据。一、热轧和冷轧试样,均观察到形变带及其内部胞结构,但亚结构细节二者有所不同。较精确地测定  相似文献   
6.
电子显微镜研究界面有两种方法。一是衍衬成像,结合界面周期结构提供的电子衍射潜进行处理;二是高分辨晶格成像技术。前者不要求电镜有很高的分辨率,这种方法虽不能提供界面的原子尺度的细节,如界面的原子配置等,仍可以揭示界面处相当丰富的亚微观尺度的精细结构,如界面结构位错和点陈位错的交互作用,它们对于研究界面对材料力学行为的影响,有着更直接的意义。图(a)是从不锈钢中获得的晶界衍衬像,界面处周期排列的位错列清晰可见。相应的衍射谱(b)上,在每一晶内基体反射附近,出现了由界面位错列提供的斑点列,经转角校正后,斑点列方向垂直于  相似文献   
7.
本文提出了一个标定高阶劳厄区电子衍射谱的计算方法,利用它可以直接给出投影到零阶上的高阶倒易点的指数。  相似文献   
8.
9.
18Ni马氏体时效钢作为一种新型超高强度钢,由于具有高强度、高韧性,热处理简单,加工性能良好,在工程上应用很广。但在焊接上仍存在一定问题,主要是与母材相比,焊缝韧性较低。本工作  相似文献   
10.
基材为普通碳钢,涂层为镍基Cr(14~18%)B(3.0~4.5%)Si(3.5~5.5%)系固溶粉末,采用氧——乙炔焰热喷涂工艺。垂直于涂层表面切取试样薄片手工研磨至小于100μ,用离子轰击制成薄膜,在120~200KV下作电镜观察。利用X射线衍射进行相分析,电子衍射测定相结构。主要结果如下; 1.涂层与基材间同时存在机械与化学两种结合方式。基材和涂层交界处存在一个约20μ宽的过渡带,观察到涂层中多种相变产物,它们对涂层的力学性能有着不同的贡献。形成的主要相为:硼化物:NiBn(b.c.c),Ni_4B_3(正交),NiB(正交),Ni_3B(正交);硅化物:Ni_3Si(面心有序),Ni_(31)Si_(12)(六方);碳化物:Cr_7C_3(六方),Cr_(23)C_6(f.c.c)。这些相分布不均,常聚集成团出现,反映出涂层的形成是一个不连续的相变过程。(图A→E)。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号