27keV Ar~+离子溅射Cu和CuAu靶时Cu的同位素分馏研究

本文报道了27keV Ar~+离子分别轰击Cu元素靶和CuAu合金靶时溅射Cu原子的同位素(~(63)Cu和~(65)Cu)分馏测量结果,发现:(1)对Cu元素靶,同位素分馏δ_f(~(63)Cu,~(65)Cu)=(62±27)‰,而对Cu-Au合金靶,δ_f=(5.9±1.6)‰;(2)δ_f(~(63)Cu,~(65)Cu)随发射角θ的变化对两者靶而言趋势是相似的,但在CuAu合金靶情况下,当θ≤40°时,δ_f((63)Cu,~(65)Cu)为负值。     

一个短间隙离子束减速系统

当今,甚低能离子束(几十ey—几个keV)在材料科学中发挥着越来越大的作用。低能离子注入和低能离子束沉积(尤其是经过质量分析的)在离子溅射等应用基础研究和各种功能膜的制备等方面有着宽广的应用前景。应用实验室电磁同位素分离器制备核物理实验用各种稳定同位素靶(几十—几百μg/cm~2的薄靶)时为了提高收集效率(要使自溅射系数小于1),也需     

束流截面监示仪及其在离子源试验台上的应用

本文介绍束流截面监示仪的原理、结构和在离子源试验台上的实验结果及其优缺点。 本截面仪采用45°螺旋线探针。探针每旋转一周就给出了在两个互相垂直的方向上束截面的形状,也指明了束在束管中的位置和束流大小。束截面仪的使用给束的调节带来了方便。 本截面仪采用磁耦合静密封代替旋转密封,结构简单、使用方便。外形尺寸为φ120×180mm。     

中等电荷态双等-PIG源的实验研究

重离子加速器(串列加速器除外)、离子注入机和其它各种利用离子束进行表面分析的装置中,如果采用多电荷离子源,则可成倍地提高可供利用的离子的能量范围,这对充分发挥装置的潜力,实现装置的小型化有重要意义。 我们利用原有的双等离子体离子源,改成双等-PIG源,在离子源实验台上做了几种气体离子的引束试验,获得的初步结果如下:     

用离子注入法制备~(57)Fe穆斯堡尔样品

~(57)Fe是在常温下就能测量穆斯堡尔谱的最常用和方便的同位素之一。应用同位素分离器把~(57)Fe同位素注入待测样品,然后测量样品中~(57)Fe受激发后的内转换电子(或X,γ射线)的穆斯堡尔谱,这是近年来己发展起来的一种新的穆斯堡尔实验技术。由于它可以对不含有穆斯堡尔核素的样品进行所需穆斯堡尔核素的离子注入,并可对样品进行非破坏性测量,从而扩大了穆斯堡尔效应的应用范围。