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一台用于超灵敏质谱(AMS)的带有多靶机构的强流溅射负离子源已经研制完成,为了满足AMS的特殊要求,源的设计着重解决提高流强、降低记忆效应及改善发射度等方面的问题,并且十分注意性能的可靠性与稳定性.样机在试验台架上进行了一年多的调试并进一步作了改进,迄今已引出了10μA BeO、5μAl-、4.5μA Fe-、350μA C-以及其他十余个离子品种,100μA以下测得的归一化发射度为(2-4)πmm@mrad@MeV1/2,对记忆效应与电离效率也进行了初步测定. 相似文献
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