模拟高放废液玻璃固化体溶解液的ICP／AES分析法

利用我院制造的高浓盐雾化器解决了送样过程中同心雾化器堵塞的问题,并且详细观察了存在于溶解液中诸元素,尤其是具有复杂光谱结构的元素之间的谱线干扰现象。我们注意到硫的最灵敏的主共振线S 180.73nm为Ca线所干扰,为此,采用次灵敏的S 1820.4nm谱线;还观察到铀和钛对Li323.26nm和Na330.24nm的谱线干扰。改变等离子体的工作参数,即增加载气流,减小高频功率,可提高被测元素Li,Na的谱线强度,同时降低干扰元素的谱线强度,从而可以在U,Ti共存的溶液中测定Li和Na。本法可测定玻璃模拟体中主次成分,共十九个元素:B,Si,Na,Li,Al,Ca,Mg,Sr,Zr,Ti,Ce,La,Nd,Fe,Cr,Mn,Ni,S,U。方法的相对标准偏差随元素不同约为1%～5%。     

模拟高放废液玻璃固化体的偏硼酸锂熔融法

一、引言随着核能的发展,人们愈来愈关注放射性废物处理工艺的安全问题。对高放废液常采用玻璃固化的处理方法。玻璃固化工艺的研究需要分析化学方面提供玻璃固化体的成份数据,作为评价其性能的重要依据。     

光谱蒸发法中蒸发温度的自动控温仪

利用光电池将蒸发法中石墨杯的温度转换成电信号,用此电信号调节可控硅的导通角,以达到控制蒸发温度的目的。运用RC充电的指数规律,实现了蒸发温度的自动上升。温度控制范围为1600—2000℃;仪器可供三种升温时间:15,30,45秒;蒸发时间在1—2.5分的范围内连续可调。     

六氟化铀中硼、硅含量的光谱测定法

为防止硼、硅的损失,将六氟化铀样品在氨水中进行水解,并在低于100℃下蒸干,用光谱法测定其中的硼、硅含量。采用交流电弧进行光谱激发,使用中型石英摄谱仪作为分光系统。针对上述设备选择了电流、电极形状等工作参数。方法的用样量小于100mg(一条谱的用量为20 mg);单次测量标准偏差为9—25%;回收率在83—105%的范围内;硼和硅的测定下限分别为0.8和10 ppm。硅的测定下限受基体中本底含量的限制。     

UF_6水解液中七个微量杂质元素的化学光谱测定

本文采用萃取色层法分离—电感耦合高频等离子体光源光谱法测定UF_6水解液中Zn、Cd、Ru、Sn、Pb、Nb和Bi微量杂质元素。先将UF_?水解液转化成UO_2(NO_3)_2蒸发至将结晶,溶于含有0.06 N HF的5 N HNO_3溶液中,通过以Kel—F粉为支持剂,TBP为萃取剂的萃取色层柱后,以5 NHNO_3溶液淋洗杂质,然后以等离子体光源激发进行光谱测定。取样0.3g时,测定下限:Cd、Ru、Nb、Bi为1ppm,Pb、Sn为2 ppm,Zn为5 ppm。当Cd、Ru、Nb、Bi的含量为1ppm和5 ppm,Pb、Sn为5 ppm,Zn为10 ppm时,方法回收率为87—113%,相对标准偏差≤±14%。