FLJ-H型放射性同位素物位计

一、引言 放射性同位素物位计可以对容器中物位进行不接触式的连续测量,它特别适用于被测对象比较特殊,环境比较恶劣的场所,例如:颗粒状、粉末状、无定形状和粘稠状物料的物位测量;在高温、高压容器中的物位测量;在有毒、有腐蚀性气体以及易燃、易爆环境下的物位测量等等。因而在工业生产中获得日益广泛的应用。     

上海EBIT装置的机械准直

采用准直望远镜对上海电子束离子阱(EBIT)装置进行机械准直,制定了合理的准直方案,设计了高精度的机械调节机构和良好的准直工艺,并进行了试验.通过准直,各组件的位置精度均达到设计指标,目前上海EBIT可以稳定运行在高压100keV和束流110mA的条件下.     

上海电子束离子阱低温超导磁体系统的研制

介绍了上海电子束离子阱(Electron beam ion trap,EBIT)装置低温超导磁体系统的研制过程和测试结果.超导磁体由一对上下布置的Helmholtz线圈组成,中心最大磁场强度可达5.3 T,两线圈的峰值磁场偏差小于3×10-4 T,在中心轴线上±10mm内磁场均匀度好于2×10-4,磁场衰减率在8 h内小于1×10-4.低温系统采用双冷屏结构,通过二级G-M制冷机冷却冷屏来降低液氦的蒸发量.系统液氦灌注达到平衡后,液氦的平均蒸发量为1.1 L/h,基本满足了用户的要求.     

双窗口组合扫描磁铁电源的研制

双窗口组合扫描磁铁电源是烟气脱硫超大功率电子加速器的关键部件之一。具有X、Y方向的协调扫描功能,可在两个窗口间快速地交替扫描;输出连续可调的稳定性高的扫描三角波电流,扫描中心位移可调,扫描均匀度较高,保护电路能自动切换至市电供电。     

束流光学程序OPTIC356L的移植和改编

在目前流行的束流光学计算程序中,J.D.Larson编写的OPTIC-Ⅱ最适宜于串列加速器的设计计算。该程序考虑了串列加速器中的主要部件,包括加速管(直场加速管和斜场加速管)、剥离器、四极透镜、静电透镜、偏转磁铁和漂移空间等。同时,该程序可以方便地调整束流通过剥离器后的电荷态,并能作出各处的束流发射相图和整个束流包络图。此外,该程     

大功率电子辐照加速器扫描磁铁芯管的研制

扫描磁铁芯管的研制是大功率电子辐照加速器引出系统的关键技术之一,本文详细叙述了扫描磁铁芯管的选材、结构设计和加工工艺,并利用有限元方法对芯管壁面加强筋的形状及位置进行了优化,对芯管的焊接工艺进行了总结归纳,最终保证该芯管在大功率烟气脱硫加速器上使用时状况良好.     

纵向多灯丝电子帘加速器的束流不均匀度

束流不均匀度是电子帘加速器束流性能的一重要指标。影响束流不均匀度的主要因素是加速器结构中各电极（阴极、反射极、栅极、阳极）的电位、形状及其相对位置。本工作针对1台纵向多灯丝电子帘加速器的实际结构参数,计算其束流不均匀度,通过分析和比较,讨论了进一步改善束流不均匀度的可能途径,为改进电子帘加速器的设计提供了参考。     

四极透镜机械误差对串列加速器束流品质的影响

利用离子光学的象差理论计算四极透镜机械误差对束流品质的影响。按上海原子核研究所2×6MV串列加速器的设计参数作了具体计算,并进行了讨论。     

用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离子注入实验

为给上海电子束离子阱(Electron Beam Ion Traps,EBIT)装置提供低电荷离子,我们研制了小型金属蒸汽真空弧(Metal Vapor Vacuum Arc,MEVVA)离子源,可产生多种金属以及半导体材料的低电荷离子.本文介绍小型MEVVA离子源的特性及其在上海EBIT装置上的离子注入实验.实验结果显示,合理控制注入参数可以使注入并被束缚在EBIT中的离子数密度达到108～109/cm3.