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本文用D-D反应对密封中子发生器用钛膜自生靶膜最佳厚度做了实验研究。在对实验结果分析的基础上,提出选择自生靶膜最佳厚度的一般原则,并得出在130 keV氘离子轰击下钛膜自成靶的最佳厚度为1.25～1.55μm,该靶在82.5μA束流轰击下D-D反应中子产额为6.5×10~6n/s。 相似文献
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一、引言采用自生靶是提高中子管性能的首要措施,而自生靶的材料选择和工艺处理方法对其性能有很大影响。菲利普等公司用蒸发到银基片的钛膜作为自生靶材料;我们对氚-钛靶和钛膜自生靶也做过一些实验。但这种钛膜靶会因溅射损失而影响寿命。我们在实验中还发现,当工作束流较大,靶温升高时,钛层中的气体会迅速逸出,使管内气压难 相似文献
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