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1.
用于立体光刻的光聚合材料及其发展   总被引:4,自引:0,他引:4  
孟怀东  阴金香 《功能材料》1997,28(3):247-252
介绍了立体光刻技术制造模型的基本原理,并对用于立体光刻的光聚合材料以及当前发展趋势进行了讨论。  相似文献   
2.
用于立体光刻的自由基光敏树脂研究与应用   总被引:1,自引:1,他引:0  
对用于立体光刻技术中的自由基光敏树脂进行了研究。研究了齐聚物和稀释单体的分子结构、分子量大小、反应性官能团密度对固化物硬度、柔韧性的影响规律。得到了两种价格低,性能优良的光敏树脂材料。为自由基型高分子光敏树脂材料的应用打下了基础。  相似文献   
3.
用于立体光刻技术的阳离子及混杂光聚合体系的研究   总被引:5,自引:0,他引:5  
研究了阳离子及混杂光聚俣体系中引发剂、齐聚物、稀释剂的组民及浓度变化对光聚合反应速度、凝胶率及其性能的影响,并对混杂型树脂进行了立体光刻的应用研究。  相似文献   
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