利用真空紫外光谱研究HL-1装置杂质浓度(英文)

叙述了利用真空紫外光谱确定HL-1装置杂质浓度的方法,详细报告了用于解释光谱测量的杂质输运模型SITCODE。此模型可以计算各个电离态杂质的密度分布以及由杂质引起的电离,轫致辐射和激发等形式的能量损失,该模型是一维的结合新经典与反常输运的杂质输运模型,用模拟的线强度获得了氧的浓度并估计了氧杂质引起的辐射功率,较了不同电子温度和不同反常扩散系数的氧离子密度的径向分布。基于SITCODE,开发了一种杂质浓度的快速分析方法,在每次放电后利用测量的OⅥ103.2nm。线强度可计算出氧浓度,实现杂质浓度的实时分析。对HL-1托卡马克在不同放电情况下杂质浓度进行了测量,且对杂质输运情况进行了研究。     

HL-Ⅰ装置等离子体真空紫外光谱研究

本文叙述了在HL-1装置上做的真空紫外区(30～200nm)光谱实验。用微通道板象增强器摄出了光谱,对光谱进行了辨认和分析。用光电法测量了谱线随时间的变化和缩小孔栏时的杂质变化情况,观察了等离子体发生小破裂时出现的光谱现象,对杂质的来源及其某些性质进行了分析研究。用两条CIV谱线强度比测出了放电初期的电子温度。     

HL-I装置等离子体真空紫外光谱研究

本文叙述了在HL-1装置上做的真空紫外区(300—2000)光谱实验。用微通道板象增强器摄出了光谱,对光谱进行了辨认和分析。用光电法测量了谱线随时间的变化和缩小孔栏时的杂质变化情况,观察了等离子体发生小破裂时出现的光谱现象,对杂质的来源及其某些性质进行了分析研究。用两条CIV谱线强度比测出了放电初期的电子温度。