液膜法去除水中Cr(Ⅵ)的研究

本文采用液膜去除回收水中Ｃｒ（Ⅵ）。对膜溶剂、载体、稳定剂的种类及用量进行了优选。用优选出的膜配方制成乳液处理含Ｃｒ（Ⅵ）水样，对制膜速度及时间、混合速度及时间、内外水相ｐＨ、膜内比及乳水比等操作条件对Ｃｒ（Ⅵ）去除率的影响进行了研究。     

各向异性介质涂覆曲面导体目标的散射

由于各向异性介质电磁参数为张量形式,使得各向异性介质涂覆导体目标的电磁散射建模和精确计算相当复杂和困难.引入高阶张量阻抗边界条件,可以大大简化建模过程,提高计算效率.论文针对各向异性介质涂覆曲面导体目标,采用基于平面近似的高阶张量阻抗边界条件,将一维二阶张量阻抗边界条件应用于柱面涂覆目标,二维二阶张量阻抗边界条件应用于三维曲面涂覆目标上,建立二者的高阶张量阻抗边界条件解.设计算例仿真,并与精确解/矩量法解比较.通过仿真,研究了各向异性介质涂覆目标电尺寸、涂覆厚度以及目标形状对高阶张量阻抗边界条件解的精度的影响.     

个性化学习资源推荐系统研究

通过分析远程网络学习系统中学习者对学习资源的访问历史,以及与学习者有类似访问兴趣的同组学习者的学习偏好,为学习者提供个性化的资源推荐服务,能够有效提高各种学习资源的利用效率,从而提高教学质量.     

基于LabVIEW与PLC之间通信接口的设计

详细介绍了基于LabVIEW与PLC之间通信的带有光电隔离的智能转换器的设计;阐述了从PLC接口上高效率的产生电路所需的电源;给出了实现RS-232接口和RS-485接口的智能转换的硬件电路,采用双光隔提高数据传输速率。     

模拟高放废液玻璃固化体析晶性能研究

以焦耳炉生产的含16%(质量分数)模拟高放废液(HLW)的硼硅酸盐玻璃固化体作为实验材料,研究了玻璃固化体在不同热处理温度下的析晶行为和热稳定性。结果表明:部分固化体在实际生产和储存过程中内部已经出现辉石晶相,已析晶玻璃的活化能较未析晶玻璃低40~60 kJ/mol;热处理试验证实辉石相在700~900 ℃内析出,同时随结晶度的增加玻璃固化体的表观颜色也发生变化。研究析晶与热历史之间的相关性有助于预测高放废物玻璃中结晶相的产生,研究结果可为焦耳炉固化工艺的进一步控制提供理论依据。     

半导体级多晶硅隐性指标研究

对于半导体行业对多晶硅产品的需求而言,6寸及以下晶圆用原生多晶硅料,国内光伏行业的生产技术全面提升至极致,可初步满足下游用户需求。而8寸、12寸晶圆用原生多晶硅料,不仅对产品的显性指标要求十分苛刻、还对产品的隐性指标要求极高,这已突破光伏行业的认知。对于半导体级多晶硅的隐性指标,目前业内相关技术研究十分少见。本文将对其相关隐性指标进行探究,为本领域的技术创新抛砖引玉。     

薄凸透镜焦距测量的不确定度分析

用不确定度来分析测量结果已成为一种趋势。本文对用物距像距法测薄凸透镜焦距时的不确定度进行了较全面的分析。首先对其系统偏差进行了修正，然后据不确定度定义对其测量结果进行了不确定度的分析。最后，简要解释了为什么理论计算结果与实验测量有一定偏差的原因。     

PC串行口DTR,RTS信号的特殊用法

文章介绍了一种PC串行口上DTR、RTS信号的特殊用法 ,在PC与单片机相互通信的系统中使用该方法 ,只需增加少量软、硬件 ,就可大大增加PC对单片机系统的控制能力 ,甚至实现其原本难以实现的功能。     

三星CLP-310系列：轻松玩转个人彩激

与多数IT产品一样，打印机正变得越来越小巧，其高度甚至与普通水杯一样，不会占用太多的办公空间。这在多年前还很难想象。现在，设计师会比较注重打印机与用户互动感的营造，小巧精致的设计风格得到了充分的关照，打印机越来越个人化。这一点在三星新近推出的全球最小的彩色激光打印机CLP-310系列身上表现的就非常明显。     

Cr23Ni18Si2Tis型炉排的应用

水平或倾斜往复式燃煤炉排机以其机械化程度高、环境污染少等优点得到很多工厂的采用。我厂从1982年开始在轧钢加热炉中使用这种炉排机。但原来使用的S型铝硅耐热合金铸铁炉排使用寿命短,在加热炉高温区使用寿命仅10～15天,有的只有一星期,每年的炉排消耗量为炉排机装机重量的8倍,而且每年因更换炉排而造成停产的时间达400h左右,严重影响了轧钢生产。同时,操