基于ARM和Zigbee的智能浮纹织造控制系统

针对纺织业中浮纹布的织造一直依赖纯机械控制的现状,为提高浮纹布织造的精度和效率,特设计了智能浮纹织造控制系统,通过上位机的工艺软件进行浮纹花色品种的设计,以U盘将多种浮纹工艺文件导入到浮纹织造控制系统里,以STM32处理器为核心根据浮纹工艺进行相关织造的电气控制;为了便于实时掌握浮纹布的产量并按订单及时进行品种的更换,系统以Zigbee技术实现数据的传输及命令的远程控制,避免了复杂的布线;经现场长时间运行,系统稳定可靠,织造速度可达250转/分以上,控制精度达到0.1 mm,具有很好的应用价值。     

水电工程碾压混凝土天然砂砾料加工工艺设计

以某水电站砂石加工系统工艺设计为例,针对其天然砂砾料储量受限、含泥量较高及细度模数偏低等问题,给出了对应的工艺流程设计选择方法及解决方案。并基于此提出了水电工程碾压混凝土天然砂砾料源加工工艺设计选择方法、需重点关注的问题及对应的解决方案。     

QS-R02反渗透阻垢分散剂工业应用试验

介绍QS-R02新型反渗透阻垢分散剂在齐鲁股份有限公司橡胶厂反渗透系统的工业试验情况,同QS-R01反渗透阻垢分散剂进行了对比。工业应用试验结果表明:新型QS-R02反渗透阻垢分散剂的碳酸钙临界饱和指数LSI达到2.5,阻垢分散效果明显优于QS-R01,能够实现橡胶厂反渗透系统运行过程不加酸的目的。同时,QS-R02药剂磷含量低,浓水总磷含量达到国家污水综合排放二级标准要求,无环境污染,具有良好的经济效益和社会效益。     

32位嵌入式处理器应用开发ABC

随着ARM处理器在全球范围的流行,32位的RISC嵌入式处理器已经成为嵌入式应用和设计的主流.与国内大量应用的8位单片机相比,32位的嵌入式CPU有着非常大的优势,它为嵌入式设计带来丰富的硬件功能和额外的性能,使得整个嵌入式系统的升级只需通过软件的升级即可实现.     

电子束和接触式曝光机的混合曝光技术

Ⅰ线光致抗蚀剂可以同时实用电子束和光学系统曝光，在50kV加速电压下，其曝光剂量为50-100μC/cm^2，曝光后在0.7%NaOH溶液内显影1分钟。其灵敏度比PMMA快5倍，分辩率为0.5μm。采用两方法制备CaAsPHEMT：一种用Ⅰ线光致抗蚀剂，对源、漏及栅全部都采用电子束曝光，制备了0.5μm栅长的GaAs PHEMT；另一种将源、漏及栅分割成两部分，其中精细部分由电子束曝光，其余部分由光学系统曝光，用这种方法制备了0.25μm栅长的GaAs PHEMT。Ⅰ     

土木工程结构动态检测方法研究进展

土木工程结构由于其自身特点，动力响应极易受到不可预见的各种因素影响，这使得基于振动的损伤识别研究具有较大的挑战性，是近年来国内外学术界和工程界研究的热点。综述基于振动的土木工程结构损伤识别方法的现状及最新进展，展望结构损伤识别研究的发展方向。     

纳米加工和纳米电子器件

介绍了电子束曝光技术、EUV光刻技术和X射线光刻技术的进展;对各种纳米电子器件如单电子器件、共振隧穿器件和分子电子器件的研究现状及面临的主要挑战进行了讨论。     

大面积水稻节水灌溉技术的研究

以玉林地区近４０年来大面积多种水稻节水技术开发的实践为基础，提出要解决的２个问题，导出４个理论公式和３组５个量化实用公式，以及长期稳定此技术的３个措施。