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用普通扫描电子显微镜 (SEM)只能观测样品的表面形貌 ,不能观测到隐藏在表面绝缘层下面的半导体材料和集成电路的微结构。在普通的SEM中安装了我们研制成功的透表面检测仪后就可以突破普通的SEM只能观测样品表面形貌的限制 ,透过表面绝缘层透视到下面的半导体材料的缺陷和集成电路的微结构。我们在本文中首次公布用改装的SEM观测到该绝缘层下面的半导体材料缺陷的微结构 (图 1 )。在研制和生产多层结构的集成电路时 ,在两层电路之间要制作一层SiO2 来作绝缘层 ,在制作好的集成电路表面需要制作一层SiO2 和Si3N4 组成的… 相似文献
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本文中我们首次在这里公布近些年来我们对半导体材料及微电子器件进行无损显微分层内窥新方法(简称显微分层内窥法)的一些电子显微镜照片及研究结果。这个方法目前已可应用到对半导体材料的亚表面层内的微结构和缺陷进行检测。亚表面层内的微结构状况和缺陷的有无及多少,将直接地决定着用这些材料制作的微电子器件的质量。对亚表面层内有缺陷的半导体材料可以用我们按照显微分层内窥法研制成的扫描电子显微镜(SEM)的专用附件——托莫(下称SETM)来加装到SEM上,对投料生产微电子器件前的半导体材料的亚表面层进行无损显微分层内窥检测,筛… 相似文献
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本文介绍了一种新的能透过成品集成电路表面Si3N4+SiO2钝化层无损显微内窥透视检测其下集成电路的微结构和缺陷的方法。 相似文献
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多功能图像处理和分析系统周开邻,马琳,胡志华,胡问国,吴永强(云南大学物理系,昆明650091)(昆明物理研究所)我们经过八年的认真研究,并在国内和俄国及美国做了大量的实验,研制成功一台“多功能图像处理和分析系统”。这套系统由于采用独特的技术路线,因... 相似文献
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多功能图像处理和分析系统周开邻,马琳,胡志华,胡问国,吴永强(云南大学物理系,昆明物理研究所)关键词:多功能图象处理和分析系统;扫描电镜(SEM);新信息;1024×1024像素点我们经过八年的认真研究,并在国内和俄国及美国做了大量的实验,研制成功一... 相似文献
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应用透表法研究硅化钯-P型硅肖特基势垒二极管(SBD)比应用EBIC法研究它的p-n结特性,尤其结深时更有明显优势:样品不需要特殊制作;无损检测方法,容易操作和使用;获得的图像十分清晰。 相似文献