透绝缘层内窥透视集成电路法中Lock-in的应用

提出一种新的在扫描电子显微镜中非接触无损透过半导体和集成电路表面绝缘层显微内窥透视检测掩盖在其绝缘层下面的半导体的缺陷和集成电路微结构的检测法(简称透表法)和用此法所观测到的图像。同时,本文还介绍了在此新检测法中Lock-in的应用。     

超大规模集成电路的无损内窥显微分层体视检测

当今世界已进入信息时代。信息时代的主要基础是计算机、通讯和自动化设备及其软件。而这些设备又是以微电子器件为基础。面对信息爆炸时代，每日每时都在产生着的数量巨大的信息，需要对其进行处理、传输、存储、显示、打印和应用，这就需要研制和生产集成度更高的集成电...     

用扫描电子显微镜透视半导体和集成电路

用普通扫描电子显微镜 (ＳＥＭ)只能观测样品的表面形貌 ,不能观测到隐藏在表面绝缘层下面的半导体材料和集成电路的微结构。在普通的ＳＥＭ中安装了我们研制成功的透表面检测仪后就可以突破普通的ＳＥＭ只能观测样品表面形貌的限制 ,透过表面绝缘层透视到下面的半导体材料的缺陷和集成电路的微结构。我们在本文中首次公布用改装的ＳＥＭ观测到该绝缘层下面的半导体材料缺陷的微结构 (图 1 )。在研制和生产多层结构的集成电路时 ,在两层电路之间要制作一层ＳｉＯ2 来作绝缘层 ,在制作好的集成电路表面需要制作一层ＳｉＯ2 和Ｓｉ3Ｎ4 组成的…     

半导体和集成电路无损显微分层内窥的新方法

本文中我们首次在这里公布近些年来我们对半导体材料及微电子器件进行无损显微分层内窥新方法(简称显微分层内窥法)的一些电子显微镜照片及研究结果。这个方法目前已可应用到对半导体材料的亚表面层内的微结构和缺陷进行检测。亚表面层内的微结构状况和缺陷的有无及多少,将直接地决定着用这些材料制作的微电子器件的质量。对亚表面层内有缺陷的半导体材料可以用我们按照显微分层内窥法研制成的扫描电子显微镜(SEM)的专用附件——托莫(下称SETM)来加装到SEM上,对投料生产微电子器件前的半导体材料的亚表面层进行无损显微分层内窥检测,筛…     

应用透表法透过Si3N4＋SiO2钝化层内窥透视成品IC的研究

本文介绍了一种新的能透过成品集成电路表面Si3N4＋SiO2钝化层无损显微内窥透视检测其下集成电路的微结构和缺陷的方法。     

Lock-in用于无损显微分层内窥透视集成电路法

提出一种新的扫描电子显微镜电子束非接触无损显微分层内窥透视半导体和多层结构集成电路表面层下亚表面层内半导体的缺陷和多层结构集成电路微结构的检测法(简称分层法)和用此法所观测到的分层内窥透视的图像.同时,还介绍了Lock-in在此新检测法中的应用     

JD-1Y型汽车酒敏断电器的研究

机动车驾驶员酒后违章开车肇事,车毁人亡,造成人民生命财产的巨大损失。可否防止这类恶性事故的发生呢?回答是肯定的。我们研究的JD-1Y型汽车酒敏断电器就是一种能有效地防止这类恶性事故发生的保安装置。当驾驶员酒后违章开车时,由驾驶员呼出的微量酒精气可被JD-1Y发现,并发出指令动作报警,使汽车不能开动。驾驶员无法开车,这就避免事故发生。     

多功能图像处理和分析系统

多功能图像处理和分析系统周开邻，马琳，胡志华，胡问国，吴永强（云南大学物理系，昆明６５００９１）（昆明物理研究所）我们经过八年的认真研究，并在国内和俄国及美国做了大量的实验，研制成功一台“多功能图像处理和分析系统”。这套系统由于采用独特的技术路线，因...     

多功能图像处理和分析系统

多功能图像处理和分析系统周开邻，马琳，胡志华，胡问国，吴永强（云南大学物理系，昆明物理研究所）关键词：多功能图象处理和分析系统；扫描电镜（ＳＥＭ）；新信息；１０２４×１０２４像素点我们经过八年的认真研究，并在国内和俄国及美国做了大量的实验，研制成功一...     

用透表法研究硅化钯二极管SBD与EBIC法的比较

应用透表法研究硅化钯-P型硅肖特基势垒二极管（SBD）比应用EBIC法研究它的p-n结特性，尤其结深时更有明显优势：样品不需要特殊制作；无损检测方法，容易操作和使用；获得的图像十分清晰。