超高速阵列式数码乘法器的研制

本文介绍了一种新的数码乘法器结构 :采用一级逻辑门结构实现阵列式数码乘法器 ,并采用 CMOS工艺技术实现新结构的 8× 8位超高速阵列式数码乘法器。     

高稳定薄膜电阻技术及其应用

首先对有关薄膜电阻的理论作了一定的探讨,得出薄膜电阻随电阻率的增加,其温度系数将会减小;在一定厚度范围内薄膜厚度减小,其温度系数减小;适当的成膜工艺能控制和改善电阻的温度系数的结论。给出了制备薄膜电阻的试验方法(调整薄膜的淀积条件以获得高质量的薄膜,再通过热处理激活)及试验结果,对影响电阻特性及稳定性的一些条件进行了讨论,并探讨了高稳定薄膜电阻技术在集成电路中的应用前景。该工艺现已在双极和MOS电路中得到了很好的应用,拥有更快、更好的发展前景。     

一种无传感直流电机控制集成电路研究

本文介绍了一种性能优良的无刷直流电机控制电路,它具有可靠性高,速度快,性能价格比高等优点.     

大规模集成电路抗热载流子设计

文章主要介绍了热载流子效应机理及产生原因，从其机理出发着重介绍了抗热载流子效应的设计方法。影响CMOS电路热载流子效应的因素有：晶体管的几何尺寸、开关频率、负载电容、输入速率以及晶体管在电路中的位置。通过对这些因素的研究，文章提出了CMOS电路热载流子可靠性设计的通用准则。     

光刻线宽精度控制的研究

本文通过对涂胶、曝光等影响线宽参数的工艺进行实验,制定了一套工艺规范,使光刻线宽控制在±10%以内,提高了光刻的工艺水平.