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1.
溅射气体和基板偏压对溅射Al_2O_3薄膜内应力和密度的影响
章吉良
李明
杨春生
赵小林
宋柏泉
《真空科学与技术学报》
1996,(1)
在纯Ar和Ar+10%O2两种工作气体及不同基极偏压条件下,用射频溅射方法制备了Al2O3薄膜,测量了每个样品的内应力和密度,并对部分样品用X射线光电子谱进行了结构分析。结果表明,薄膜呈非晶态,薄膜的内应力均为压应力,并给出了气体种类和们压对膜的密度和应力的影响。
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