全文获取类型
收费全文 | 98篇 |
免费 | 0篇 |
国内免费 | 13篇 |
专业分类
综合类 | 8篇 |
金属工艺 | 15篇 |
机械仪表 | 6篇 |
轻工业 | 2篇 |
无线电 | 29篇 |
一般工业技术 | 17篇 |
原子能技术 | 33篇 |
自动化技术 | 1篇 |
出版年
2006年 | 1篇 |
2005年 | 3篇 |
2004年 | 3篇 |
2003年 | 4篇 |
2002年 | 7篇 |
2001年 | 20篇 |
2000年 | 11篇 |
1999年 | 8篇 |
1998年 | 3篇 |
1997年 | 4篇 |
1996年 | 2篇 |
1995年 | 5篇 |
1994年 | 3篇 |
1993年 | 4篇 |
1992年 | 3篇 |
1991年 | 6篇 |
1990年 | 8篇 |
1989年 | 1篇 |
1988年 | 2篇 |
1987年 | 5篇 |
1986年 | 2篇 |
1985年 | 2篇 |
1984年 | 1篇 |
1983年 | 2篇 |
1980年 | 1篇 |
排序方式: 共有111条查询结果,搜索用时 0 毫秒
1.
2.
3.
Using the MEVVA ion source, carbon ions have been implanted in TiN coatings deposited by multi-arc ion plating The Vickers microhardness of the C+ -implanted TiN films increased with the increase in the ion flux and dose. X-ray diffraction (XRD) analysis showed that the TiC phases had been formed in the films. In addition, the films had the preferred growth orientations of TiN and TiC, both of which were (111) orientation after annealing at 500℃ for 30 min. Auger electron spectra analysis indicated that C+ -implanted profile was in typical Gaussian-like distribution in single films. The distribution with multipeaks of C atoms was obtained in multi-layer TiN/Ti. The possibility of the multilayer films (Ti (C, N)/TiN/Ti(C, N)/TiN and Ti(C, N)/TiC/Ti(C, N)/TiC) forming using the C-implanted TiN/Ti films is presented for the first time. 相似文献
4.
钼离子注入硅薄层硅化钼的合成 总被引:1,自引:0,他引:1
用大束流密度的钼金属离子注入硅,能够直接合成性能良好的薄层硅化物。随着束流密度的增加,硅化钼生长,薄层硅化物的方块电阻Rs明显下降,当束流密度为0.5A/m^2时,Rs达到上值90Ω,说明连续的硅化物已经形成。X衍射分析结果表明,注入层中形成了3种硅化钼Mo3Si、Mo5Si3和MoSi2。经过900℃退火后,Rs下降至4Ω,电阻率可小到0.16μΩ.m,说明硅化钼薄层质量得到了进一步的改善。大束 相似文献
5.
评述了离子束技术的发展和应用,特别针对离子束多功能综合加工技术的发展进行了评论.这种技术已经成为独具特色的热处理技术.该技术属于低消耗、高产出、高效率和无污染的绿色加工技术.评述了这一技术的未来发展方向. 相似文献
6.
7.
Polymeric solids have low density, high ability to form intricate shapes, versatile electronic properties and low manufacturing cost. However their uses are still limited by their inherent softness and unexpected dielectric properties. In order to enhance their electrical and mechanical properties, ion implantation techniques have been explored[1—3]. Recent studies have shown that ion implantation is very effective for improving surface properties of polymers such as surface hardness and wear… 相似文献
8.
9.
N 和 Ti 注入 TiN 的射程和损伤已在本文中给出。N 和 Ti 注入 TiN 使其颜色发生了变化。试验结果表明,N 和 Ti 注入 TiN 均能使 TiN 的硬度增加.特别是 N 注入使注入层硬度提高更为显著.如5×10~(17)cm~(-2)的 N 注入 TiN,可使 TiN(此时 Ti/N 原子不再是1)的维氏硬度从2600提高到6000.为了分析 N 和 Ti 注入引起 TiN 硬度增加的原因,用 XPS 测量了 N 和 Ti 注入 TiN 所引起化学结构的变化。试验中观察到间隙 N 和 Ti2N 峰的出现.用扫描电镜观察了注入样品磨损后的形貌。据此讨论了 Ti 和 N 注入而引起 TiN 特性变化的机理。 相似文献
10.
首次研究了钨和碳双注入对抗磨损和抗腐蚀特性的影响,研究了抗磨损和抗腐蚀相生成的条件,以及这些相对抗磨损和抗腐蚀特性的作用,并对其改进机理进行了讨论。实验结果表明,钨和碳双注入H13钢可注入层中形成超饱和的钨和碳原子浓度。因此在注入层中形成钨的碳化物WC和W2C相,合金相Fe2W和Fe2W6C等,这些弥散相不但可以使注入具有钨和碳单注入的特性,所以能进一步地提高H13钢的抗腐蚀性,随着W和C注入剂量的增加,抗磨损和抗腐蚀特性进一步提高,抗磨损特性可改善2倍,双注入样品抗腐蚀特性也有明显也提高,如样品W5C8的腐蚀电流峰值密度Jp经55个周期腐蚀后,其值是H13钢Jp的1/26.7-1/33.3,而钨样品C5W5经过88个周期腐蚀后,其值是H13钢的1/16-1/20。 相似文献