液晶太赫兹光子学研究进展

液晶作为液态和固态之间的中间态，具有液体的流动性和晶体的各向异性，其指向矢灵活可调，从微波到紫外都有广泛应用。近年来液晶光子学在太赫兹波段展现出巨大应用前景，本文综述了基于液晶的太赫兹源、可调太赫兹器件和太赫兹探测器的研究进展，探讨了未来液晶太赫兹光子学的发展趋势，如新型铁电向列相、液晶拓扑在太赫兹领域的应用，多模式、多参量的太赫兹波按需产生、调制与探测等。     

基于LPC2138的嵌入式综合电力仪表设计与实现

采用微处理器和嵌入式技术,基于LPC2138处理器和μC/OS-Ⅱ嵌入式操作系统设计并实现了综合电力仪表。利用μC/OS-Ⅱ嵌入式操作系统的可移植性、可固化、可模块化、多任务性等特点实现了数据采集、FFT计算、实时通信、人机交互界面等功能,达到了较为满意的测量精度和人性化操作。     

基于元件整合的拓扑分析算法

拓扑分析是电网分析的基础。本文主要讨论了电网拓扑分析算法及流程。在图形建模的基础上,提出了通过元件整合预处理过程减少参与拓扑计算的电气元件的数量,从而提高计算速度的方法,最后介绍了算法的实现。     

含左手材料和单负材料三层平板波导中TE模的传输特性

研究了以左手材料为衬底和单负材料为覆盖层三层平板波导中TE模的传输特性,为波导器件的设计提供理论支持。首先导出了归一化有效厚度H与归一化频率ν的关系,然后数值计算分析了三层平板波导的传输特性。结果表明,该三层平板波导TE模具有以下特性：1）当导波层与衬底或覆盖层磁导率的比值的增大时,归一化有效折射率b随频率ν的变化率减小。2）当不对称因子a趋近于0时,b随ν单调变化;当a较大时,在截止频率附近,TE₁、TE₂、TE₃、TE₄和TE₅模出现双值现象。3）当a增大时,H-ν曲线从左向右移动。4）对于TE₀模,H出现负值。     

Chromonic溶致液晶及调控研究进展

Chromonic溶致液晶（Lyotropic Chromonic Liquid Crystals,LCLCs）是由可溶性芳香族化合物自组装形成的一类溶致液晶。由于其丰富的物理各向异性、生物兼容性以及可调控性,LCLCs在生物检测、细菌操控等应用领域具有重要的研究价值。本文回顾了LCLCs调控方面的研究,简要介绍了其特性,重点分析了外场调控、掺杂等调控手段对LCLCs的影响,最后讨论和总结了可行的调控手段和未来的发展路线。     

二氯喹啉酸防除稻田杂草试验

本文详细地介绍了二氯喹啉酸的使用时期，剂量、施用方法及与其他杀稗剂的对比试验结果。试验结果表明，与其他同类产品相比，二氯喹啉酸是一个比较理想的除稗剂。施用时期为１－３叶期，剂量为每公顷１公斤，喷塞与毒土法处理均可。     

聚合物稳定双频蓝相液晶的亚微秒电光响应

蓝相液晶由于其出色的电光性质在信息显示和光电子领域受到了广泛的关注，然而日益发展的信息技术对信息的传递、处理、存储速度提出了更高的要求。为了进一步强化蓝相液晶的快速电光响应优势，本文以双频向列相液晶为主体，掺杂聚合单体、手性剂、光引发剂等材料制备了聚合物稳定双频蓝相液晶，通过调节双段电压脉冲时长，实现了聚合物稳定双频蓝相液晶的快速电光调控，其电光调控的开关时间均小于500 ns。     

负性液晶电致图案化及其衍射特性

液晶中电对流图案形成是一种奇特而又有趣的现象,同时也是光衍射研究中的一个重要问题。本文旨在探索负介电各向异性的向列相液晶中图案的形成以及相关的衍射特性。实验观察到4种不同的电对流图案,分别是软方形图案、斜条纹、静脉状图案和不规则图案。探究了不同温度下产生图案所需要的阈值电压。研究了电场对图案的周期性以及相对指向矢倾斜角的影响,并对图案相应的衍射特性进行了分析。实验结果表明,通过调节电场和温度可以改变电对流图案。产生图案所需要的阈值电压随着温度的升高而减小,随着频率的升高而增大。软方形图案的周期随着频率的升高先减小后增大,而斜条纹的周期随频率的升高而减小。当f=25～45 Hz时,斜条纹相对于初始指向呈现约44°的偏转。这种可控的电对流图案为实现基于向列相液晶的可调谐光学衍射器件提供了一种可行方案。     

基于GPRS和基站定位的城市公交监控装置

分析了基站定位相对于GPS定位在城市公交终端应用中的优势,介绍了基于GPRS和基站定位的公交监控装置设计,并着重阐述了基于ARM嵌入式系统平台的监控装置的技术实现。     

碳—硅系孕育剂提高灰铸铁性能的应用

永康拖拉机厂为生产 S195柴油机的重点企业,批量较大,在铸工输送带上进行流水作业,要求用同一CE 的铁水浇注不同壁厚的铸件。在采用75％硅铁作孕育剂的条件下,如取较小的 CE 值,薄壁件容易出现渗碳体,造成加工困难;如取较大的 CE 值,则厚大铸件的硬度达不到要求。因此,要寻找一种新型的孕育剂以满足组织流水生产的要求。浙江大学研制的C-Si 系孕育剂具有减白口能力强,抗孕育衰退时间长,壁厚敏感性小等特点,已成功地用于机床铸件,决定进行试验,以考察该孕育剂是否适合我厂的生产条件。