业余条件下的丝网印刷

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-50℃用20MnMoD钢锻件及其焊接接头性能

研究了-50℃的20MnMoD钢锻件及其焊接接头在不同热处理状态时的综合力学性能。结果表明,-50℃的20MnMoD钢锻件具有良好的低温韧性,可与-50℃级正火型低温压力容器钢15MnNiNbDR配套使用。     

一个实用的逆变主电路拓扑

对一种介于单端正激和半桥式之间的实用逆变电路进行了介绍了分析。根据电路特点和工作情况，分为单端正激工作状态、半桥工作状态和混合工作状态3种形式，并进行了具体原理和关系的讨论。针对该电路拓扑结构和工作方式的对称性，对中点C的电位在工作时的变化进行了描述，并在此基础上进行了归纳和总结。     

控制图在复极电解槽控制中的应用

根据离子膜制碱工艺的特点，与控制图的应用理论相结合，寻找控制对象并选择控制图的类型。通过选择合适的工艺参数，使用控制图的数据处理技术对实际数据进行处理，绘制出控制图，利用参数波动符合正态分布的特点对控制图的波动情况进行分析，用来诊断电解槽运行的受控情况。     

超声波辅助电镀沉积Ni镀膜工艺研究

采用超声波辅助电镀沉积工艺方法研究工艺参数对电镀沉积金属镍镀膜的表面形貌及力学性能的影响规律.实验结果表明:超声波辅助电镀沉积镍镀层时,超声波能够细化镀层的晶粒,降低镀层的孔隙率,同时显著地改善异性工件电镀层的均匀性.当超声波作用时间20 min时,电镀镍镀层的孔隙率为2个/cm2.随着超声波作用时间的延长,电镀镍镀层的显微硬度呈现出先增加后降低的变化趋势.     

面向颗粒状农产品的分选方法

为提高颗粒状农产品分选精度,提出了一种基于现场可编程门阵列(FPGA)的k最近邻(k-NN)方法.该方法分两步:第一步对基于FPGA的彩色线阵CCD成像系统得到的图像在PC上进行保存,并对得到的图像进行特征提取,然后用k-NN方法对提取的特征进行特征筛选得到最优特征集.第二步将训练好的最优特征集放在FPGA的ROM上,FPGA对线阵CCD得到的图像数据实时提取特征与ROM上最优特征集做距离计算实现k-NN分选算法.对花生和开心果两种颗粒状农产品用该方法进行实验,以RGB颜色空间为主要特征,结果表明:在选择合理特征个数和k值情况下对花生和开心果的分选正确率都达到了95％以上.     

基于输入导纳模型的AC-DC变换器输出电流二倍工频纹波的抑制

采用高功率因数(Power Factor, PF)的AC-DC变换器通常在二倍工频处具有显著的输出电流纹波。为了抑制这种低频输出电流纹波并保持高功率因数，可将并联补偿电路(Parallel Compensation Circuit, PCC)的输入侧与功率因数校正(Power Factor Correction, PFC)变换器的输出侧并联。建立PCC的输入导纳模型，提出一种基于虚拟导纳的输入电压前馈(Voltage Feedforward, VFF)策略，实现对PCC输入导纳的整形，从而有效抑制AC-DC变换器的输出电流二倍工频纹波，最后通过仿真验证了分析结果。     

CLL谐振变换器谐振电路参数优化设计

CLL谐振变换器谐振网络电路参数的设计关系到变换器性能的好坏。基于基波近似法,并结合特征阻抗分析方法,提出一种CLL谐振变换器谐振网络电路参数优化设计方案。详细分析了CLL谐振变换器的直流增益特性、谐振网络电流有效值和谐振电容电压应力,同时采用特征阻抗分析方法给出了实现开关管软开关的限制条件。实验结果验证了所提方案的正确性。     

不同氩气气压下钒靶HIPIMS放电特性的演变

目的以V靶为例,研究高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)放电时不同工作气压下靶脉冲电流及等离子体发射光谱的表现形式和演变规律,为HIPIMS技术的进一步广泛应用提供理论依据。方法利用数字示波器采集HIPIMS脉冲放电电流波形,并利用发射光谱仪记录不同放电状态下的光谱谱线,分析不同气压下V靶HIPIMS放电特性的演变规律。同时,利用HIPIMS技术成功制备了V膜,并利用扫描电子显微镜观察了V膜的截面形貌。结果不同氩气气压下,随着靶脉冲电压的增加,靶电流峰值、靶电流平台值及靶电流平均值均单调增加,而且增加的速度越来越快,但靶电流峰值的增加速度明显高于平台值,这是由于脉冲峰值电流由气体放电决定所致。不同气压下,Ar0、Ar+、V0和V+四种谱线峰的光谱强度均随靶电压的增加而增加,相同靶电压时,其光谱强度随着气压的增加而增加。当气压为0.9 Pa、靶电压为610 V时,Ar和V的离化率分别为78%和35%。此外,利用HIPIMS技术制备的V膜光滑、致密,无柱状晶生长形貌特征。结论较高的工作气压和靶脉冲电压有利于获得较高的系统粒子离化率,但HIPIMS放电存在不稳定性。合适的工作气压是获得优质膜层的关键。     

电弧喷涂PS45涂层抗高温氧化性及抗热震性

采用电弧喷涂工艺在钢基体上制备PS45涂层,利用扫描电镜、X射线衍射仪对涂层的显微组织和抗高温氧化性及抗热震性进行了分析。结果表明,制备的涂层组织致密,涂层与基体之间界面凸凹不平,结合性良好;涂层主要由沉积颗粒铺展区域和飞溅区域组成。XRD结果显示,涂层由δ(Ni-Cr),Ti O_2及Cr_2O_3等相组成。涂层在550℃,650℃时氧化增重不明显,而在750℃时氧化增重较为明显。550℃时涂层15次热循环未出现明显的裂纹和剥落等现象。涂层高温时生成Ni O,Cr_2O_3及Ni Cr_2O_4等氧化物。