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1.
三氟化硼是一种具有重要意义的高附加值电子气体,随着半导体产业的高速发展,对电子气体的纯度提出了更高要求,文中详细论述了三氟化硼合成制备及纯化的研究进展,以此根据实际生产制备条件,选择不同纯化方法进行提纯.  相似文献   
2.
氢氧化镁阻燃剂的应用与研究进展   总被引:3,自引:0,他引:3  
综述了氢氧化镁阻燃剂的阻燃机理,应用现状,改性技术;展望了氢氧化镁阻燃剂未来的发展趋势。  相似文献   
3.
基于Aspen Plus对副产氯化氢精馏模拟与分析   总被引:1,自引:0,他引:1  
通过Aspen Plus灵敏度分析工具对氯化氢精馏塔的塔板数、进料位置及回流比对产品纯度及热负荷的影响进行了分析和优化,最后通过使用设计规定工具使优化后的精馏塔满足氯化氢的分离要求,并得到了塔内温度以及气液相组成的变化规律。  相似文献   
4.
采用超临界二氧化碳萃取装置提取青稞中的有效成分。实验结果表明在温度60℃,压力25 MPa,流量30kg/h,萃取5 h,β-葡聚糖的含量约3%。与传统的溶剂萃取法和化学法相比,超临界二氧化碳萃取技术具有工艺简单,萃取剂无毒、无污染、无化学物质残留、易于回收等优点。  相似文献   
5.
"S注入法"与选线定位   总被引:28,自引:6,他引:22  
着重介绍“S注入法”选线定位新原理,及根据此原理研制的TY-01及02型小电流接地系统单相接地选线与定位保护。该保护解决了两相TA(电流互感器)架空出线小电流接地系统单相接地选线与定位这一重大技术难题,并适应小电流接地系统的各种情况,成为通用型选线定位保护。  相似文献   
6.
对活性炭吸附氯化氢中的氯气性能做了实验研究。研究结果表明采用活性炭吸附的方法,可以除去氯化氢气体中的氯气,吸附后的尾气中氯气的含量低于10×10-6,满足吸附深度的要求。压力在0.4 MPa、流量控制在400 mL/min时,分别测得了在26、8、-10、-35、-60℃下,每克活性炭吸附氯气的动态吸附量分别为:141.5、172.0、178.0、181.0、185.0 mg。  相似文献   
7.
配电线路全线速切保护的可行性研究   总被引:8,自引:1,他引:8       下载免费PDF全文
本文根据当代城市及大型企业中配电网络的特点和供电要求,提出了配电线路故障全线速切的概念,分析了其必要性和可行性,提出了实用的实施方案,与常规的时限配合式保护进行了综合经济技术比较,得出了较有意义的结论  相似文献   
8.
以工业控制计算机、PLC控制器、NI公司的模拟量数据采集卡(AT-MIO-16E-10)、开关量数据采集卡(PC-DI0-24)为硬件核心,以虚拟仪器编程环境Lab-Windows/CVI为软件平台,开发设计了技术先进、性能优越、使用方便的电力系统静态模拟实验装置的计算机监控系统。解决了现有静模系统存在的种种问题,大大提高了静模系统的性能指标。  相似文献   
9.
阐述了甲硫醇气体的合成方法,研究了甲硫醇钠溶液与硫酸反应合成甲硫醇,得到了较高品质的甲硫醇气体。  相似文献   
10.
三氟化硼作为一种常用的气体在半导体工业中发挥着重要的作用.高纯度的三氟化硼(>4N,>99.99%)可用于高新技术行业因而具有高的附加值、重要的研究意义和工业价值.对三氟化硼工艺包括冷阱法、吸附法、化学转化法及精馏法等进行了总结.  相似文献   
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