基于刻蚀工艺的IC关键面积计算模型与实现方法

在IC的制造过程中,由于工艺的随机扰动,过刻蚀和欠刻蚀造成了导线条的宽度和线间距的变化.论文在分析过刻蚀和欠刻蚀对IC版图影响的基础上,提出了基于工艺偏差影响的IC关键面积计算新模型和实现方法.模拟实验表明模拟结果与理论分析是一致的.     

基于差分进化算法的智能组卷方法

如何从庞大试题库中自动生成符合教学和考试要求的一套试卷是目前我国利用计算机进行辅助教学的一个重要研究内容.通过分析用户对组卷的要求和试题结构特征.构建了一个智能优化组卷新模型,同时给出了求解的差分进化算法.数值试验结果表明,所给的方法在组卷效率和质量方面具有更好的性能.     

IC缺陷轮廓的分形插值模型

现用于集成电路(IC)成品率预报及故障分析的缺陷模型均是用圆或正方形来代替真实缺陷的复杂轮廓进行近似建模的,从而在模型中引入了很大的误差。本文利用分形插值的思想直接对真实缺陷的轮廓进行模拟,从而提出了一种新的缺陷轮廓表征模型。实验结果表明:与传统的最大圆模型、最小圆模型及椭圆模型相比,新模型的建模精度有了很大的提高。     

非线性采样控制系统的稳定性

1　引言采样控制系统是一类典型的混杂系统 ,它是由非线性连续时间对象和数字控制器耦合而成 .其对象可用一阶微分方程描述 ,而控制器可用一阶差分方程描述 .对这类系统的研究引起了广泛的兴趣 .文献 [1～ 4]分别研究了关于状态 ,控制为线性或关于控制为线性的系统的定性性质 ,     

等离子体工艺引起的MOSFET栅氧化层损伤

在深亚微米 MOS集成电路制造中 ,等离子体工艺已经成为主流工艺。而等离子体工艺引起的栅氧化层损伤也已经成为限制 MOS器件成品率和长期可靠性的一个重要因素。文中主要讨论了等离子体工艺引起的充电损伤、边缘损伤和表面不平坦引起的电子遮蔽效应的主要机理 ,并在此基础上讨论了减小等离子体损伤的有效方法。     

基于刻蚀工艺的IC关键面积计算模型与实现方法

在IC的制造过程中,由于工艺的随机扰动,过刻蚀和欠刻蚀造成了导线条的宽度和线间距的变化.论文在分析过刻蚀和欠刻蚀对IC版图影响的基础上,提出了基于工艺偏差影响的IC关键面积计算新模型和实现方法.模拟实验表明模拟结果与理论分析是一致的.     

开路缺陷的软故障关键面积研究

从软故障的产生机制出发,研究了软故障的作用模式.为了计算软     

基于OrCAD/PSpice 9的电路多目标优化设计

提出了一种基于OrCAD／PSpice9的电路多目标优化设计方法，应用该方法可以对各目标参数问的互抗性进行定性分析，并有效地确定他们的权系数，从而实现电路的最佳设计。     

基于刻蚀工艺的IC关键面积计算模型与实现方法

在 IC的制造过程中 ,由于工艺的随机扰动 ,过刻蚀和欠刻蚀造成了导线条的宽度和线间距的变化 .论文在分析过刻蚀和欠刻蚀对 IC版图影响的基础上 ,提出了基于工艺偏差影响的 IC关键面积计算新模型和实现方法 .模拟实验表明模拟结果与理论分析是一致的     

VLSI容错设计研究进展(2)——功能成品率与可靠性的研究

带冗余的集成电路的成品率的估计对制造者来说是一个非常重要的问题。文中将集中分析和讨论带冗余的成品率模型和可靠性,给出了该领域研究进展的最新结果,并指出了进一步研究的方向和策略。