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论述了光刻在集成电路生产中的重要性,讨论了各种行之有效的光刻精度的保证方法,并分析了进一步光刻精度的方法。  相似文献   
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一、前言3600F 图形发生器是目前国内引进的先进的光学制版设备。为了更好地发挥其作用,在实际的使用过程中,我们对原有的主操作程序(简称 mop 程序)进行了5处修改,并扩充了5个功能程序,重新生成了新的 mop程序磁带。大大地扩展了机器的使用范围。尤其是通过修改,解决了3600F 不能直接接  相似文献   
3.
本文介绍了扫描电子显微镜(SEM)的器件剖面分析技术,并对双层金属化工艺中的技术难点进行了分析和研究。  相似文献   
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