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1.
2.
目前,常用的 S 参数测量不确定度评定方法中均未考虑 S 参数相关性的问题,论文给出了一种2GHz ~18GHz 频率范围内 S 参数测量不确定度的评定方法,该方法从校准件的定义出发,基于 SOLT 校准技术对矢量网络分析仪进行自校准,将校准件引入的不确定度通过矢量网络分析仪传递给被测件(DUT ),通过使用蒙特卡洛仿真的方法(MCM )得到矢量网络分析仪测量 DUT S 参数的测量不确定度,评定过程中考虑了相关性问题,提高了 S 参数测量不确定度的可靠性和合理性。  相似文献   
3.
超声检测技术是混凝土非破损检测技术中的一个重要方面,在混凝土结构工程检测中应用极为广泛,特别是在检测混凝土内部缺陷与匀质性等方面非常有效。  相似文献   
4.
为解决封装GaN/AlGaN高电子迁移率晶体管(HEMT)的芯片热阻难以测量的问题,提出了采用热反射热成像测温装置测量芯片热阻的方法。采用365 nm波长紫外发光二极管(LED)作为测温装置的光源测量芯片沟道区域GaN材料的温度,以近似峰值结温;采用530 nm波长可见光LED作为光源测量芯片底面金属的温度。测温过程中,采用图像配准技术和自动重聚焦技术调整由于热膨胀引起的位置偏移和离焦。对芯片底面金属测温结果进行了误差分析。最后,在4个加热功率下测量了芯片热阻,测量结果显示芯片热阻与总热阻之比超过52%。  相似文献   
5.
韩志国 《治淮》2009,(7):32-33
一、前言 现在制作等值线图的主要方法是手工点绘等值线图,其优点是根据底图上的各点数据绘制的等值线图比较圆滑,人脑判定线条走向,但存在点绘时间长且因人而异的缺点。笔者在编制地下水通报绘制等值线的过程中,以GIS为技术支撑平台,尝试利用ArcGIS的空间分析功能克服人工绘制等值线的缺点,收到很好的效果。  相似文献   
6.
研究了糖苷类表面活性剂C8/10烷基糖苷(APG)、C12/14醇醚糖苷(AEG)和C12/14醇醚糖苷柠檬酸单酯二钠盐(AEG-EC)与双癸基二甲基氯化铵(DDAC)复配体系的物化性能和相行为。结果表明,APG/DDAC体系的表面张力、泡沫性能和乳化性能有增效作用,润湿性能无增效作用。AEG/DDAC体系的泡沫性能和乳化性能有增效作用,润湿性能无增效作用。AEG-EC/DDAC体系的表面张力和润湿性能有增效作用,泡沫性能无增效作用。用偏光显微镜研究了三元体系的相行为,结果表明,随着DDAC含量的增加,糖苷类表面活性剂/DDAC/水体系的三元相图依次出现胶束相、胶束-液晶共存相和层状液晶相。  相似文献   
7.
通过在美国Foxboro公司的考察,对其成功的管理经验做了深入地分析;结合中国石化集团具体情况从多方面进行了思考;对国外大公司的成功经验给中国石化企业的启示进行了阐述。  相似文献   
8.
分析了二次码烧生产工艺的优势、当前存在的问题及其原因,提出了改变过去“重上下架系统、轻干燥窑炉”的发展模式,建议加强联合,重视快速干燥设备的研究,研究快速干燥系统,弱化上下架系统,彻底改变二次码烧技术投资大、成本高、效益低的误区。  相似文献   
9.
微纳米间距标准样板作为微纳米几何量量值溯源体系中的重要组成部分,是纳米科技发展的基础保证。通过对微纳米间距样板作为标准物质基本要求的论述,指出了对比度、均匀性和稳定性考核在标准样板质量参数评价中的重要作用。以SEM作为测量仪器,对不同材料的样板进行了对比度测量;以CD-SEM作为测量仪器,对不同标称间距和不同生产单位的标准样板进行了均匀性、稳定性实验以及测量不确定度分析;通过质量参数评价实验和分析,为微纳米间距标准样板的制作和使用提供重要的理论依据。实验结果表明,质量参数评价在微纳米间距样板作为标准物质使用时具有十分重要的作用。  相似文献   
10.
Aiming at the problem that the lattice feature exceeds the view field of the scanning electron microscope (SEM) measuring system, a new lattice measuring method is proposed based on integral imaging technology. When the system works, the SEM measuring system is equivalent to an integral image acquisition system. Firstly, a lattice measuring method is researched based on integral imaging theory. Secondly, the system parameters are calibrated by the VLSI lattice standard. Finally, the value of the lattice standard to be tested is determined based on the calibration parameters and the lattice measuring algorithm. The experimental results show that, compared with the traditional electron microscope measurement method, the relative error of the measured value of the algorithm is maintained within 0.2%, with the same level of measurement accuracy, but it expands the field of view of the electron microscope measurement system, which is suitable for the measurement of samples under high magnification.  相似文献   
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