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以紫外光光刻、硅蚀刻及软光刻技术制备了聚乳酸(poly-L-lactide,PLLA)三维微小凹图式,考察人神经母细胞瘤细胞(SH-SY5Y)在微小凹结构上的生长与分布行为。以共聚焦显微技术结合钙离子荧光染料Calcium Green-1,AM评价SH-SY5Y细胞在PLLA三维微小凹图式和平面基底上电压依从式钙离子通道(VGCCs)的功能响应性。实验发现,分布在微小凹顶部的细胞为二维生长方式,凹内侧壁的为三维生长方式,凹内底部的为边界二维生长方式;以50 mmol/L高钾溶液去极化刺激发现,三维及边界二维细胞VGCCs阳性响应比率为75%和81%,较平面培养的91.2%明显降低。上述结果表明,PLLA三维微结构及细胞生长行为是影响SH-SY5Y细胞VGCCs功能响应性的重要因素,微小凹图式是模拟神经细胞三维生长环境进而构建三维细胞生物传感器的有效途径。 相似文献
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以紫外光光刻、硅蚀刻及软光刻技术制备了微柱阵列型细胞培养基底.实验发现,在4μm的结构高度下,当微柱特征尺寸大于或等于4 μm时,该法能制备结构规整清晰的聚二甲基硅氧烷微柱阵列型基底.特征尺寸为2μm的基底已经接近该法的极限加工能力,所加工的微柱阵列出现倒伏或缺失.采用一种简单的倾斜角法可以制备一种聚苯乙烯微球致密阵列... 相似文献
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