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本文综术了集成电路工艺的Cu布线中Cu薄膜化学气相沉积(CVD)的研究背景,详细介绍了CVD生长Cu金属薄膜的国内外研究进展及CVD对前趋物的要求,并对前趋物的一些物理、化学性质进行了总结,最后,对薄膜沉积的计算机摸拟作了简要介绍。 相似文献
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利用田间试验方法研究保护剂长残效除草剂解毒效应。不同保护剂对豆磺隆解毒效应有差异,作保灵解毒效应最明显,但在除草剂高残留量时解毒作用下降。作保灵对三种长残效除草剂都具有明显的解毒作用,作物的出苗率可恢复80%~100%。解毒效应顺序为油莱>白菜>甜菜。 相似文献
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基于0.18μm CMOS工艺,设计了一种差分低噪声放大器(LNA)。为了改善该放大器的线性度,提出了一种谐波抑制技术。该技术在增益级采用RC反馈网络。该技术的应用可将共栅晶体管漏极的三阶谐波分量反馈回共栅晶体管源级,以抑制LNA输出端口三阶谐波分量的产生。电路仿真结果表明,与传统的LNA相比,改进后的LNA的输入三阶交调点IIP3提高了约4d B,验证了该技术的实用性和可行性。 相似文献
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以一个具体工程项目为实例,分析了PLC之间通信的几种方案,介绍了基于PROFIBUS现场总线的PLC网络的构成以及PLC通信的实现。 相似文献
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