Si3N4陶瓷气氛压力烧结（GPS）技术

本文论述了气氛压力烧结技术产生的技术前景，ＧＰＳ烧结的原理和优越性，介绍了ＧＰＳ烧结工艺的技术关键以及在材料制备中的实际应用。     

Si3O4基陶瓷材料高温腐蚀的动力学研究

本文采用静态腐蚀法,用煤灰及K_2SO_4作腐蚀介质,对三种Si_3N_4基材料在高温下的腐蚀过程进行了研究。结果表明:材料在不同温度下的腐蚀动力学过程不同;在1350℃时,符合中心收缩模型:1-(1-α)~(1/3)=kt;在1400℃时,则为α=kt~2。且材料不同。其腐蚀的表观速度常数亦不相同。     

Si3N4基陶瓷热腐蚀研究现状及进展

本文针对Ｓｉ３Ｎ４基陶瓷材料作为高温结构材料使用的不同环境，首先讨论了Ｓｉ３Ｎ４陶瓷在高温下氧化，继而讨论了Ｓｉ３Ｎ４陶瓷在熔融盐（钠盐或钾盐）中的腐蚀研究现状。本文最后指出了腐蚀研究中存在的问题，提出了今后应进行了研究方向。