首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   10篇
  免费   0篇
化学工业   7篇
无线电   3篇
  2012年   2篇
  2008年   1篇
  2007年   2篇
  2006年   1篇
  2005年   2篇
  2004年   1篇
  2003年   1篇
排序方式: 共有10条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1
1.
研究了C194铜合金引线框架表面氧化状态对封装树脂结合强度的影响。铜合金引线框架与树脂的结合强度随氧化膜厚度的增加而先增加后减小,并在厚度为100nm时达到最大值15.3MPa,比氧化前提高了2.6MPa。其原因在于氧化膜能够提高与封装树脂之间的润湿性,而氧化膜较厚时,断裂更易发生在疏松的氧化膜中,从而降低了结合强度。防铜变色剂处理可以通过有效减缓氧化膜生长来控制其结合强度。  相似文献   
2.
研发了一种无铅无镉的化学镀镍新工艺,以两种新型稳定剂复合使用替代铅和镉,确定稳定剂SY-2的最佳用量为4 m g/L镀液在6周期仍保持清澈透明,具有良好的稳定性;镀速在0~6周期之间为27~21μm/h,镀层磷质量分数为5.6%~9.0%,所得镀层光亮、硬度高、孔隙率低,具有良好的结合力和耐腐蚀性。该工艺镀液稳定性和镀层性能在一定程度上已超过了有铅有镉工艺,完全可以作为含铅、镉化学镀镍的替代品。  相似文献   
3.
延长化学镀镍液寿命的研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
随着施镀的进行,化学镀镍液中的硫酸钠和亚磷酸钠的积累越来越多,从而影响镀液的使用寿命。提出了镀液中硫酸钠和亚磷酸钠的处理方法。对于硫酸镍体系,首先将镀液冷却至室温除去过量的硫酸钠晶体,接着在常温下添加Ca(OH)2沉淀除去亚磷酸根离子;对于次磷酸镍体系,直接采用常温下Ca(OH)2沉淀除去亚磷酸根离子的方法。分别测试和对比了2种体系镀液处理前后,镀液和镀层的性能,如镀液各组分浓度、镀液的密度、镀速、镀层应力等。采用化学沉淀法延长化学镀镍液寿命是切实可行的。  相似文献   
4.
无铅纯锡电镀中的若干问题   总被引:1,自引:0,他引:1  
由于纯锡镀层具有许多优良的性质,如可焊性、延展性、导电性和耐蚀性等,因而纯锡已成为电子工业中无铅电镀的首选.但纯锡电镀中存在着许多问题,如锡晶须、镀层变色及镀液混浊等.这些问题对工业电子电镀过程来说是非常重要的,但目前对它们的了解还不多.通过对这些问题进行较深入的研究,找到了镀层变色及镀液混浊的影响因素,给出了三种解决变色问题的方法:电镀添加剂、后处理及Ni(P)阻挡层.开发了一种新的镀锡抗氧化剂.  相似文献   
5.
化学镀锡在印刷线路板中的应用   总被引:1,自引:0,他引:1  
0 前言 传统印刷线路板大多采用热浸Sn-Pb合金焊料,热浸温度高达250℃以上,然后用热风吹平的整平工艺.该工艺要求线路板材料必须具有耐高温性能,否则,板材易翘曲、扭曲,不适于表面贴装(SMT)等安装工艺的实施.例如:高密度板(HDI)在热风整平后焊料会粘连在两线之间,造成短路.此外,因焊料含有大量Pb,对环境严重污染,已被欧盟RoHS指令明确禁止在电子产品中使用.因此,用化学镀锡(置换镀锡)来取代热风整平是首选工艺.  相似文献   
6.
研究了宏观整平剂、微观整平剂及电流密度对铜微凸点表面平整性的影响,探讨了2种整平剂和电流密度对铜微凸点表面的作用机制.镀液组成和工艺参数为:CuSO475 g/L,H2SO4100 g/L,Cl-50 mg/L,整平剂H和W0~10 mg/L,(25±2)℃,60 r/min,1~8A/dm2,35 min.结果表明,宏观整平剂可促进铜的沉积,微观整平剂则可抑制铜的沉积,二者相互配合可改变电镀过程中镀孔的电力线分布,使电流密度分布均匀.在一定范围内提高电流密度可加快铜微凸点的生长.在6 A/dm2下,2种整平剂的质量浓度均为5 mg/L时,可制得结晶细腻、表面平整的铜微凸点.  相似文献   
7.
引脚可焊性镀层无铅纯锡高速电镀添加剂的开发   总被引:1,自引:0,他引:1  
介绍了引脚可焊性镀层高速电镀工艺流程、高速电镀添加剂各组分的作用及其选择要求。通过Hull槽实验、10L电镀实验和高速模拟实验确定了甲基磺酸、二价锡离子、温度、电流密度和自制的添加剂——可焊性镀层锡铅高速电镀添加剂SYT845和无铅纯锡高速电镀添加剂SYT843H等各工艺条件对高速电镀过程的影响。可焊性实验和扫描电镜照片表明,采用SYT845型和SYT843H型添加剂所得的高速电镀镀层具有良好的可焊性,且结晶规整、细致,晶粒尺寸为1~3μm;SYT843H无铅纯锡高速电镀样品经TCT试验1000个循环(-60~150℃)后在500倍的SEM照片中没有发现锡须。该自制的添加剂应用于生产中已有2年。  相似文献   
8.
9.
引线框架高速锡铅电镀添加剂的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
对电镀添加剂中各组份的作用和影响进行了实验研究,开发出了一种新型甲基磺酸高速锡铅电镀添加剂.研究了电镀工艺中的各种影响因素,确定了适宜的工艺条件.  相似文献   
10.
无铅纯锡电镀晶须产生的原因和控制对策   总被引:8,自引:1,他引:7  
开发无铅化纯锡电镀技术必须首先解决锡须问题。讨论了锡须形成的影响因素及机理。开发出一种能有效防止锡须生成的无铅纯锡电镀添加剂,该添加剂具有结晶细致、可焊性好、消耗量低、使用维护容易等优点,从而建立了一种抑制锡须的有效方法,同时解决了纯锡电镀中的其它难题。介绍了控制锡须的其它一些有效措施及锡须生长加速试验。  相似文献   
1
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号