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许多文献报道了光催化材料的设计合成及其在环境污染防治与资源循环利用中的应用。然而,大多数光催化材料含有过渡金属离子,其浸出的环境风险限制了催化材料的应用。碳化硅作为第三代半导体材料的代表,由于不含有过渡金属离子、耐高温酸碱、稳定性强等特性使其在环境污染防治工作中具有良好的潜在应用前景。近年来,一些文献报道了碳化硅的合成、改性及其作为光催化剂在环境与资源循环利用中的应用研究,然而很少有文献综述碳化硅光催化剂的应用研究进展。针对以上现状,围绕碳化硅光催化剂合成方法、掺杂改性及应用等方面,综述了国内外近年来在碳化硅光催化领域取得的进展,并对该光催化剂体系的前景进行了展望。 相似文献
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针对聚偏氟乙烯(PVDF)多孔膜改性,将PVDF铸膜液加入添加剂进行物理共混是一种简单、有效的方法。文章综述了近年来利用不同添加剂通过物理共混改性PVDF多孔膜的研究进展,归纳了常见的添加剂类型,包括无机添加剂如二氧化硅(SiO2)、二氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、碳纳米管(CNT)、氧化石墨烯(GO)等,有机添加剂如聚乙烯基吡咯烷酮(PVP)、聚二甲基硅氧烷(PDMS)、两亲性聚合物等。文章指出未来需加强对已有添加剂与PVDF物理共混成膜动力学和热力学研究,优化物理共混改性的制备过程,提高添加剂和膜基体的结合力,以制备高稳定性、性能优异的PVDF改性膜。 相似文献
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