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专业分类
化学工业
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2017年
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1.
工艺参数对磁控溅射WO_3薄膜电致变色性能的影响
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汤全丰
李海增
王宏志
张青红
李耀刚
陈培
《现代技术陶瓷》
2017,38(2):142-149
本文采用磁控溅射法制备了用于电致变色器件的WO_3薄膜,用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-Vis)对其物相组成、微观形貌以及电致变色性能进行了表征。结果表明:在溅射压强为2 Pa、氩氧比为60:20时所制备的WO_3薄膜厚度适中,且有利于离子的嵌入/脱出,而以此薄膜制备的电致变色器件光调制范围最大,褪色时间最短,着色效率达82.9 cm~2/C。
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