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为了得到高质量的纳米薄膜,对直流磁控溅射法制备Ni-Ti薄膜工艺进行了研究。采用单晶硅和玻璃两种基体材料,并在不同的基体温度、晶化温度、溅射功率等条件下制备薄膜。之后对薄膜进行了XRD,SEM分析。分析结果表明:薄膜成分、厚度、表面形貌、致密度与溅射功率、基体温度、晶化温度、基体材料密切相关。并根据实验结果给出优化的纳米Ni-Ti薄膜制备工艺。 相似文献
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采用18CrNiWA和40Cr钢,用3种不同强度材料的试件,进行了一系列3点弯曲试件深裂纹和浅裂纹的OOD及J积分值试验,再次得出了浅裂纹的ODD和J积分值大于深裂纹值的结果.文中用滑移线场理论进行分析。得出浅裂纹的静水应力值要小于深裂纹值,从而造成浅裂纹的断裂韧度值大于深裂纹值的结论.并以双参数断裂理论分析得出a/W值的减小导致了T应力的减小,并由此导致裂纹尖端塑性区的增大.即浅裂纹塑性约束的减小,造成了浅裂纹的δi及Ji值明显高于深裂纹值的结果.文中还指出了其重要的工程实际意义. 相似文献
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对低应力作用下12Cr1MoV钢中磷原子的晶界偏聚现象进行了俄歇能谱实验研究和动力学分析.实验获得了在30MPa拉应力作用下,磷原子在晶界处发生的非平衡晶界偏聚,临界时间是1h.分析表明,低拉应力极大地提高了磷-空位复合体在钢中的扩散速率,低拉应力引起的晶界变形对磷-空位复合体具有强烈的吸引作用.通过动力学计算给出了磷-空位复合体偏聚阶段扩散系数Dc和磷原子反偏聚扩散系数Di随时间变化的表达式. 相似文献
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对直流磁控溅射法制备Nd-Fe-B薄膜工艺进行了研究.在不同的溅射功率、溅射气压、溅射时间等条件下制备薄膜,并对薄膜进行了AFM、XRD分析.结果表明,Nd-Fe-B薄膜的沉积速率、表面形貌及相结构与溅射功率、溅射气压、溅射时间密切相关.薄膜的沉积速率随磁控溅射功率的增加而增加,薄膜表面晶粒尺寸和表面粗糙度随溅射功率增加而增大.沉积速率随溅射气压的升高先增大后减小.低功率溅射时,薄膜中出现α-Fe、Nd2Fe14B相相对较少,随溅射功率增加,α-Fe相消失,Nd2Fe14B相增多.综合考虑各种因素,最佳溅射功率为100~130 W. 相似文献
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In order to improve surface hardness and corrosion resistant property of 17-4PH martensitic stainless steel, the steel was plasma nitrocarburized at 560 °C for 2-24 h in a gas mixture of nitrogen, hydrogen and ethanol with rare earths (RE) addition. The experimental results showed that the modified layer was characterized by a compound layer containing two distinct zones (i.e. out ’dark zone’ and inner ’white zone’). The inner ’white zone’ was almost a precipitation free zone and had high hardness as well as good corrosion resistance. Anodic polarization test results showed that the specimens plasma nitrocarburized with RE addition had good corrosion resistance resulted mainly from their higher corrosion potentials, lower corrosion current densities and larger passive regions as compared with those of the untreated one. 相似文献
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