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1.
介绍了基于自由载流子对介质折射率调制作用,而建立的监测半导体器件内自由载流子变化情况的实验装置,该装置能实时反映自由载流子变化情况,且对原电路无任何影响。本方法适用于硅和砷化镓材料的电子和光电子器件,也显示了在测量集成电路内部有源器件特性方面的潜在应用前景。 相似文献
2.
3.
4.
介绍的是在开轧温度一定的条件下,引入动态规划法进行负荷均衡优化计算,将一个多变量的优化计算问题转变成多阶段单变量的优化问题,通过调整粗、精轧机组各架轧机的压下量来实现粗、精轧机组轧制负荷的相对均衡。 相似文献
5.
首先利用有限元分析的方法对井状筋式和整板式移动工作台两种典型结构进行了静刚度分析及比较.然后对井状筋移动工作台进行了优化设计.并将井状筋移动工作台放在机身上进行整体分析,比较了单个分析与整体分析的异同. 相似文献
6.
介绍了配电网中性点的一般接地方式和国外先进国家的配电网中性点的接地方式,并详细介绍了我国配电网中性点接地方式和要求,以及配电网接地方式的发展趋势,从而提出了在配电网中性点选择时应注意的问题和选择原则。 相似文献
7.
本文在回顾了电力系统需求侧管理的基本内容和潮流优化的基本原理之后,使用动态潮流优化考虑中在断负荷管理,提出了潮流优化的需求侧管理模型,并分析了这种模型的合理性. 相似文献
8.
研究了催化剂载体孔径、比表面积与催化传感器工作性能关系和催化剂表面的酸性或碱性修饰对催化传感器工作性能的影响。得出了经高温焙烧的载体以及对载体预先进行表面的酸性或碱性处理有利于催化传感器性能提高的结论。 相似文献
9.
本文详细论述了河北理工学院与唐山水泥机械厂合作开发的SJCAPP专家系统中知识库的建立方法,本系统工艺决策规则、工装决策规则和余量决策规则的模式具有良好的通用性和可移植性。 相似文献
10.
本文推荐一种使用光刻形成图形的无机光致抗蚀剂作为扩散源的新掺杂技术。所用的这种抗蚀剂膜是由Se-Ge为基体用施主或受主杂质作为第三组分所组成三元系统;文章详细地介绍了扩散工艺步骤;用这种技术成功地完成了在硅中进行n型和p型杂质的掺杂。所制成的n~ -p型和p~ -n型二极管具有良好的p-n结特性,而且丝毫不低于常规方法制造的二极管特性。采用这种技术还制作了双扩散n -p-n晶体管。用二次离子质谱仪(SIMS)分析结果表明:掺入硅中的硒和锗量极微,基本上可以忽略不计,这种新型掺杂技术不需形成二氧化硅掩模,也无需形成这种掩模图形。我们可以预料这种掺杂技术将在工艺简化方面和一些其它方面显示出许多优点。 相似文献