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采用离子束溅射镀膜装置制备了一种新的材料组合Si/C多层膜 ,用于 30 4nm波段的正入射多层膜反射镜。并用软X射线反射率计测得其反射比最大值为 0 14。有效地抑制了 15 0nm处的二级衍射峰。 相似文献
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我们用Henke型软X射线源完成了栅网的接触式成像,采用Talystep台阶仪测量了不同曝光时间PMMA光刻胶的溶解速率。由测量曲线可知光刻胶在显影开始时速率较快,随着时间的增加,溶解速率逐渐趋缓,最后达到所有的曝光时间下的样品的溶解速率都相同。这与理论分析十分吻合。 相似文献
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采用离子束溅射镀膜装置制备了一种新的材料组合Si/C多层膜,用于30.4nm波段的正入射多层膜反射镜。并用软X射线反射率计测得其反射比最大值为0.14。有效地抑制了15.0nm处的二级衍射峰。 相似文献
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采用离子束溅射在不同的工艺参数下制备一系列单层 Mo膜、Si膜及多层膜 ,并用原子力显微镜分析单层膜表面粗糙度及两种材料间的界面扩散。当束流电压超过一定数值时 ,可避免单层膜的柱状生长 ;在 Mo- on- Si和 Si- on- Mo界面中 ,Mo- on- Si界面扩散对反射率的影响更大。采用 X射线衍射仪分析多层膜中 Mo、Si材料的晶体结构 ,均为多晶结构 ,其中 Mo为 ( 1 1 0 )晶向 ,Si为 ( 4 0 0 )晶向。根据上述分析优化工艺参数 ,获得的 1 3nm Mo/Si多层膜反射率达到 60 %。 相似文献
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采用离子束溅射在不同的工艺参数下制备一系列单层Mo膜、Si膜及多层膜,并用原子力显微镜分析单层膜表面粗糙度及两种材料间的界面扩散.当束流电压超过一定数值时,可避免单层膜的柱状生长;在Mo-on-Si和Si-on-Mo界面中,Mo-on-Si界面扩散对反射率的影响更大.采用X射线衍射仪分析多层膜中Mo、Si材料的晶体结构,均为多晶结构,其中Mo为(110)晶向,Si为(400)晶向.根据上述分析优化工艺参数,获得的13nmMo/Si多层膜反射率达到60%. 相似文献
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按照生物样品各分辨单元具有多种透过率的特点,设计了一个多衬度的台阶状蛋白质模型,模拟各台阶的真实成像条件,测量了各台阶所对应的抗蚀膜显影速率曲线,对显影条件作了定量分析,并将显影条件与分辨率紧密结合起来,找到了一种较好的定量确定显影条件的方法。 相似文献
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