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PRO/E与ANSYS接口 总被引:6,自引:0,他引:6
随着计算机技术的发展,CAD/CAE系统应用越来越广泛.为了提高产品的质量、缩短产品设计周期,必须实现CAD/CAE系统之间的数据交换.本文详细介绍了目前应用较广泛的CAE/CAE软件PRO/ENGINEER和ANSYS之间的数据交换接口. 相似文献
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测量多层膜结构中薄膜厚度的一种新方法 总被引:2,自引:1,他引:1
提出一种基于平行板电容测微原理进行多层膜材料的测厚方法。该方法用有效电极直径西3mm电容传感头,通过变化空气隙△h进行多次测量,对输出电压V值进行线性拟合,得到空气隙与测量电压的关系,计算出被测厚度,测量精度达0.01μm。若采用有效电极直径西1mm传感头,测量精度可达0.001μm。通过理论分析和实验证实,该方法不需对被测材料提前标定相对介电常数,不需特殊制备样件,是非接触测量,测量方法简单、成本低。因此适用于各种薄膜、特别是多层结构膜的无损膜厚测量及平面度测量。 相似文献
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提供了在镜面抛光Si衬底上沉积平滑的纳米金刚石(NCD)薄膜的方法。采用微波等离子体化学气相沉积(CVD)系统,利用H2、CH4和O2为前驱气体,在镜面抛光的Si基片上制备了直径为5cm的NCD薄膜,用扫描电镜(SME)和共焦显微拉曼光谱分析其表面形貌和结构特点。分析表明,利用这种方法可以制备出高sp^3含量的NCD薄膜。通过与沉积时间加长而沉积条件相同情况下合成的金刚石微晶薄膜形貌相对比,分析了H2-O2混合气氛刻蚀制备NCD薄膜的机理。分析表明,基底的平滑度对O2的刻蚀作用起到重要的影响;在平滑的基底上,含量较少的O2的刻蚀作用也很明显;随着基底的平滑度下降,混合气氛中O2的刻蚀作用逐渐减弱。 相似文献
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采用射频(RF)磁控溅射的方法,通过改变工艺参数在n型Si(100)片上制备六方氮化硼(h-BN)薄膜。通过傅立叶红外(FTIR)光谱仪,X射线衍射(XRD)仪进行结构表征,原子力显微镜(AFM)进行表面形貌和压电性能表征。测试结果表明,在射频功率为300 W、衬底温度为500℃、工作压强在0.8Pa、N2与Ar流量比为4∶20和衬底偏压在-200V时制备的六方BN薄膜具有高纯度、高c-轴择优取向,颗粒均匀致密,粗糙度为2.26nm,具有压电性并且压电响应均匀,符合高频声表面波器件基片高声速、优压电性要求。薄膜压电性测试研究表明,AFM的PFM测试方法适用于纳米结构半导体薄膜的压电性及其压电响应分布特性的表征。 相似文献
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In order to reduce the noises affixed to the signals when testing high frequency devices,a single-port test mode(S11) is used to test frequency response of high frequency(GHz) and dual-port surface acoustic wave devices(SAWDs) in this paper.The feasibility of the test is proved by simulating the Fabry-perot model.The frequency response of the high-frequency dual-port resonant-type diamond SAWD is measured by S11 and the dual-port test mode(S21),respectively.The results show that the quality factor of the device is 51.29 and the 3 dB bandwidth is 27.8 MHz by S11-mode measurement,which is better than the S21 mode,and is consistent with the frequency response curve by simulation. 相似文献
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文章首先介绍了CDMA基带信号发生器的原理,然后以前向业务信道为例介绍了信号发生器的流程,并详细 介绍了各个模块的数据速率及算法和DSP器件的实现。观察输出信号频谱图,CDMA为一带宽受限的宽带信号,符合CDMA 信号的特性。 相似文献
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